wersja mobilna
Online: 945 Czwartek, 2017.08.24

Biznes

Wynalazek NTU umożliwi wykonywanie wyraźnych zdjęć w bardzo słabym świetle

wtorek, 11 czerwca 2013 07:51

Być może już wkrótce możliwe będzie wykonanie wyraźnego zdjęcia w ciemnym otoczeniu przy użyciu aparatu fotograficznego wyposażonego w rewolucyjną matrycę wynalezioną w Nanyang Technological University. Nowy czujnik wykonany z grafenu, jako pierwszy może reagować na szerokie spektrum światła z uwzględnieniem średniej podczerwieni. Oznacza to, że nadaje się do stosowania we wszystkich typach kamer na podczerwień, w tym kamer o dużej prędkości rejestracji oraz służących do obrazowania satelitarnego.

Grafenowy sensor jest nie tylko 1000-krotnie wrażliwszy na światło niż tanie matryce montowane we współczesnych aparatach kompaktowych, ale również zużywa 10 razy mniej energii i działa przy zastosowaniu niższych napięć. Przy masowej produkcji grafenowe matryce mogą być co najmniej pięć razy tańsze. Wynalazca grafenowego czujnika, adiunkt Wang Qijie ze Szkoły Inżynierii Elektrycznej i Elektronicznej NTU, powiedział, że to pierwszy taki przypadek kiedy czujnik o wysokiej światłoczułości i szerokim spektrum został opracowany przy użyciu czystego grafenu.

Wang Qijie wpadł na pomysł stworzenia grafenowych nanostruktur, które stają się pułapką dla generowanych światłem elektronów na znacznie dłuższy czas, co daje w efekcie silniejszy sygnał elektryczny. Takie sygnały elektryczne mogą być następnie przetwarzane w obraz, na przykład fotografie zrobione za pomocą aparatu cyfrowego. "Uwięzione elektrony" są kluczem do osiągnięcia silnej reakcji na światło. Dzięki temu grafenowa matryca może być o wiele skuteczniejsza niż obecne czujniki obrazu wykonywane w technologii CMOS lub CCD. Według ogólnej zasady, silniejsze generowane sygnały elektryczne dają wyraźniejsze i ostrzejsze zdjęcia.

Prace badawcze nad czujnikiem trwały dwa lata i kosztowały 200 tys. dolarów. Wang Qijie opatentował swój wynalazek. Następnym krokiem jest opracowanie komercyjnej wersji grafenowego czujnika optycznego.

źródło: Nanyang Technological University

 

World News 24h

czwartek, 24 sierpnia 2017 07:58

ASML has announced the opening of a new branch office in Nanjing, China where its major client TSMC is constructing a new 12-inch wafer plant. TSMC is on track to complete the construction of its new 12-inch fab in Nanjing, which will directly enter 16nm chip production in 2018. Being among TSMC's major equipment suppliers, ASML will start to supply lithography systems and services to the foundry's new Nanjing facility in September 2017. ASML indicated its teams in the Netherlands, Taiwan and China will provide their fully support to help the foundry ramp the new fab on schedule.

więcej na: www.digitimes.com