wersja mobilna
Online: 468 Wtorek, 2017.09.26

Biznes

Ismosys udostępnia czujniki magnetyczne CTSX Crocus Technology

piątek, 25 lipca 2014 11:48

Firma Ismosys, reprezentująca lidera technologii budowy półprzewodnikowych sensorów magnetycznych Crocus Technology, udostępniła nową serię czujników pola magnetycznego CTSX. W ofercie są trzy rodziny urządzeń - CTSX100, 200 i 300. Crocus Technology wykorzystuje w czujnikach zastrzeżoną technologię Magnetic Logic Unit, która zapewnia wyższą wydajność oraz niższy koszt konsumenckiego i przemysłowego zastosowania sensorów.

W porównaniu do tradycyjnych technologii czujników rodzina produktów CTSX Crocusa oferuje wiele zalet, w tym wysoką rozdzielczość i czułość - znacznie większą niż czujników Halla, niewielką histerezę, doskonałą liniowość i pasmo przenoszenia, dostępność czujników bezstykowych DC i AC, niskie zużycie energii oraz temperaturę pracy do 250°C, nieporównywalną z produktami konkurencyjnymi. Nowe urządzenia są idealne do stosowania jako czujniki położenia, obrotu i prędkości, a także w aplikacjach przełączania i detekcji prądu, gdzie mogą zastąpić duże cewki i transformatory.

Seria CTX100 jest przeznaczona wyłącznie do pracy przy niskim napięciu zasilania 1,2 V, podczas gdy urządzenia CTX200 i CTX300 są w stanie pracować z napięciem zasilania od 1,2 do 15 V. Wszystkie trzy rodziny urządzeń są dostarczane w obudowach QFN 16-pin.

Według Nigela Wattsa, dyrektora generalnego Ismosys, wprowadzenie rodziny czujników magnetycznych CTSX jest wskaźnikiem siły i daleko idących możliwości firmy Crocus w zakresie technologii MLU. - Oczekuje się, że rynek czujników magnetycznych przekroczy 2 mld dolarów w 2015 r. Technologia MLU jednoznacznie wskazuje Crocus Technology jako firmę mogącą dostarczyć rozwiązań do różnorodnych aplikacji czujników magnetycznych. Praca w szerokim zakresie temperatur czyni czujniki CTSX idealnym rozwiązaniem dla rozwijających się zastosowań samochodowych - mówił Nigell Watts.

źródło: Ismosys

 

World News 24h

wtorek, 26 września 2017 20:05

Imec has developed cost-effective fine-pixel photolithography for manufacturing ultra-high resolution OLEDs. Imec aimed to push pixel density beyond 1000 ppi. Imec and CPT have verified that a novel photolithography process can allow for ultrafine OLED patterns. The proposed technique does not require using fine-metal masks to structure thermally evaporated OLED stacks. One of the main challenges when applying standard photolithography is the fragility of the organic materials for the photolithography chemicals. To circumvent this issue, Imec and CPT have used an i-line, chemically amplified photoresist system in a process flow dedicated to OLED stacks.

więcej na: www.imec-int.com