wersja mobilna
Online: 611 Piątek, 2017.03.24

Biznes

Nowości i trendy w systemach embedded

poniedziałek, 24 listopada 2008 01:00

Fot.1. Hala produkcyjna firmy Kontron w Augsburgu

W dniach 16–17 września odbyła się konferencja Editors Update 2008 zorganizowana w siedzibie firmy Kontron w Augsburgu. Tematem przewodnim były nowe technologie sprzętowe i programowe wprowadzane do komputerów przemysłowych.

Prezentacje prowadzili przedstawiciele firm Kontron, Intel i Wind River. W przypadku Wind River prezentowano nowe trendy w oprogramowaniu komputerów przemysłowych dotyczące m.in. optymalizacji oprogramowania pod kątem nowych mikroprocesorów wielordzeniowych oraz wykorzystania technologii hypervisor umożliwiającej równoczesną pracę kilku różnych systemów operacyjnych na pojedynczym komputerze host. Intel prezentował możliwości nowej platformy Montevina opartej na chipsetach GM45/GS45/GL40 i nowych wersjach mikroprocesorów Core 2 Duo produkowanych w procesie technologicznym 45nm. Ponadto prezentowane były możliwości nowej rodziny mikroprocesorów Atom projektowanych pod kątem najbardziej wymagających zastosowań przemysłowych wymagających równocześnie dużej mocy obliczeniowej, małych wymiarów podzespołów i małego poboru mocy. Kontron prezentował nowe trendy w zakresie komputerów jednopłytkowych, osiągających już rozmiary karty kredytowej.

Oprócz tego firma Kontron prezentowała swoje wyroby, począwszy od komputerów jednopłytkowych i kart rozszerzeń po gotowe aplikacje, takie jak gry elektroniczne, punkty informacyjne czy zautomatyzowane bramki wykorzystywane w systemach kontroli dostępu.

Tomasz Daniluk

 

World News 24h

piątek, 24 marca 2017 10:00

Mentor Graphics Corporation announced that Dr. Robin Bornoff, Dr. John Parry and John Wilson, a team from Mentor Graphics Mechanical Analysis Division, received the Harvey Rosten Award for Excellence in thermal modeling and analysis of electronics. The team received the award for their paper, Subtractive Design: A Novel Approach to Heatsink Improvement, at the 33rd annual IEEE Thermal Measurement, Modeling and Management Symposium in San Jose, California.

więcej na: www.mentor.com