wersja mobilna
Online: 871 Piątek, 2018.02.23

Biznes

Rynek masek fotorezystywnych wzrośnie.

środa, 15 lipca 2009 15:12

Rynek producentów warstw fotorezystywnych do procesów litografii z wykorzystaniem laserów o długości fali 193 nm przez najbliższe pięć lat będzie odznaczał się średnią roczną stopą wzrostu na poziomie 27%, aż do uzyskania wartości 1,2 mld dolarów w 2013 r. Według raportu sporządzonego przez Linx Consulting, branża ta w ubiegłym roku wygenerowała obroty na poziomie 378 mln dolarów.

Największymi producentami pozostają japońskie firmy. JSR, Tokyo Ohka Kogyo i Shin-Etsu Chemical kontrolują łącznie 78% całkowitego rynku. Według analityków, w przyszłości firmy te jeszcze bardziej wzmocnią swoją pozycję.

Firma

Udziały w rynku w 2008 r.

JSR

30,50%

TOK

20,20%

RHEM

16,50%

ShinEtsu

12,10%

FFEM

8,40%

Sumitomo

7,10%

Azem

3,10%

Dongjin

2,10%

Czołowi producenci materiałów fotorezystywnych w 2008 r. i ich udziały w rynku [źródło: Linx Consulting]


 

World News 24h

piątek, 23 lutego 2018 19:54

Toshiba has developed TaRF10, a new version of its TarfSOI CMOS process optimized for low-noise amplifiers in smartphone applications. In recent years, the increasing speed of mobile data communication has expanded the use of RF switches and filters in the analog front end of mobile devices. The resulting increase in signal loss between the antenna and receiver circuits has degraded receiver sensitivity, and focused attention on LNAs with a low Noise Figure as a means to compensate for signal loss and improve the integrity of the received signal. Toshiba has used its new TaRF10 process to develop a prototype LNA with avnoise figure of 0.72dB and a gain of 16.9dB at a frequency of 1.8GHz.

więcej na: www.electronicsweekly.com