wersja mobilna
Online: 660 Sobota, 2018.02.24

Biznes

ST zmniejszyło straty w II kw.

czwartek, 13 sierpnia 2009 11:09

STMicroelectronics zakończyło II kw. odnotowując stratę netto równą 318 mln dolarów, wobec 541 mln straty w poprzednim kwartale i 47 mln rok wcześniej. Obroty wyniosły 1,993 mld dolarów, wliczając w to przejęcie biznesu Mobile Platforms od Ericsson.

W porównaniu z poprzednim kwartałem, oznacza to wzrost o 20%. Całkowite obroty w pierwszej połowie roku były jednak o 25% mniejsze niż w tym samym okresie rok wcześniej. W II kw. działania oszczędnościowe firmy skoncentrowane były na zakończeniu produkcji w ośrodku w Carrollton (USA), redukcji zatrudnienia i planami oszczędnościowymi w ST-Ericsson.

Koszty restrukturyzacyjne i utrata wartości aktywów wyniosły 86 mln dolarów. Wprowadzone zmiany pozwolą ST zmniejszyć koszta działalności do 750 mln dolarów w 2009 r. Według przedstawicieli STMicroelectronics, na jej wyniki w głównej mierze wpływ ma trudna kondycja światowej gospodarki, jednak pozytywnym sygnałem jest poprawa koniunktury odnotowana II kw, kiedy to liczba zamówień wzrosła pomimo trwającej niepewności na rynku. W III kw. przewidują oni, że obroty STMicroelectronics zwiększą się do przedziału 2,07-2,27 mld dolarów, co oznacza tempo wzrostu od 4 do 14%.

Poprawa będzie odczuwalna we wszystkich segmentach działalności. Dodatkowo, przeprowadzone działania oszczędnościowe pozwolą polepszyć wskaźniki rentowności, a umacniająca się koniunktura zwiększy poziom wykorzystania fabryk do ok. 75%. Sytuacja ta powinna się utrzymać w IV kw., jednak nieprzewidywalność rynku sprawia, że za wcześnie jest na jakiekolwiek prognozy, jak przekonują przedstawiciele STMicroelectronics

 

World News 24h

sobota, 24 lutego 2018 08:05

Peter Trefonas, Ph.D., corporate fellow in Dow Electronic Materials, has recently been elected a Fellow of SPIE, for achievements in design for manufacturing and compact modeling. SPIE, the international society for optics and photonics, will promote 73 new Fellows of the Society this year, to recognize the significant scientific and technical contributions of each in the multidisciplinary fields of optics, photonics, and imaging. SPIE Fellows are honored for their technical achievements and for their service to the general optics community and to SPIE in particular. Trefonas has proven himself to be a leader in advanced lithographic technology with numerous highly cited and pioneering papers in key areas of advanced lithography.

więcej na: www.dowelectronicmaterials.com