wersja mobilna
Online: 533 Piątek, 2017.06.23

Biznes

ASML i IMEC odnowiły umowę o współpracy

wtorek, 18 października 2011 09:58

ASML, czołowy dostawca narzędzi do litografii, oraz belgijski instytut badawczy Interuniversity Microelectronics Centre (IMEC) przedłużyły umowę o współpracy na lata 2011 - 2015. Jak dotąd obie organizacje ściśle współpracowały przy opracowaniu i produkcji narzędzi fabrycznych do litografii, zarówno optycznej jak i w skrajnym ultrafiolecie.

IMEC otrzymał od ASML jeden z pierwszych systemów do litografii EUV do swojego zakładu produkcji pilotażowej operującego na płytkach 300mm. Obecnie obie firmy koncentrują prace m.in. na poprawie jakości i wydajności maszyn do litografii UEV.

Poza przewidzianą na listopad br. instalacją w IMEC systemu NXT1950i, najnowszego narzędzia ASML do litografii immersyjnej 193nm, producent narzędzi dostarczył instytutowi na wiosnę system EUV NXE:3100 (preproduction), a obecnie zamierza zainstalować jego następcę, system NXE:3300B (production ready).

MT

 

 

Szukaj w serwisie Semicon

World News 24h

piątek, 23 czerwca 2017 14:02

Traditional cameras cannot be truly flat due to their optics: lenses that require a certain shape and size in order to function. At Caltech, engineers have developed a new camera design that replaces the lenses with an ultra-thin optical phased array. The OPA does computationally what lenses do using large pieces of glass: it manipulates incoming light to capture an image. The OPA has a large array of light receivers, each of which can individually add a tightly controlled time delay to the light it receives, enabling the camera to selectively look in different directions and focus on different things.

więcej na: www.caltech.edu