wersja mobilna
Online: 463 Wtorek, 2017.09.26

Biznes

NXP i Globalfoundries wyprodukują wbudowaną pamięć nieulotną w technologii 40 nm

czwartek, 26 marca 2015 11:28

Firmy Globalfoundries oraz NXP Semiconductor NV ogłosiły, że wspólnie opracowały nową generację wbudowanych pamięci nieulotnych - eNVM. Współpraca zaowocowała produkcją prototypowych płytek o średnicy 300 mm, wykonanych przy użyciu 40-nanometrowego procesu technologicznego Globalfoundries. Firma Globalfoundries jako pierwsza rozwija i wdraża proces 40 nm dla układów eNMV. Przewiduje się, że rozpoczęcie masowej produkcji nastąpi w 2016 roku, w zakładzie w Singapurze.

Zakład produkcyjny Globalfoundries w Singapurze jest certyfikowany przez Niemiecki Federalny Urząd ds Bezpieczeństwa Informacji (BSI) w zakresie wytwarzania bezpiecznych produktów IC. W 2012 roku otrzymał certyfikat Common Criteria ISO 15408-EAL 6, który odnowił w roku 2014.

źródło: Globalfoundries

 

World News 24h

wtorek, 26 września 2017 20:05

Imec has developed cost-effective fine-pixel photolithography for manufacturing ultra-high resolution OLEDs. Imec aimed to push pixel density beyond 1000 ppi. Imec and CPT have verified that a novel photolithography process can allow for ultrafine OLED patterns. The proposed technique does not require using fine-metal masks to structure thermally evaporated OLED stacks. One of the main challenges when applying standard photolithography is the fragility of the organic materials for the photolithography chemicals. To circumvent this issue, Imec and CPT have used an i-line, chemically amplified photoresist system in a process flow dedicated to OLED stacks.

więcej na: www.imec-int.com