Poznaj nową linię E-LINE 100, sprawdzony i unikalny, wielofunkcyjny system EBL Raith’a do nanoinżynierii, teraz z większą liczbą funkcji i lepszą wydajnością.
Kluczowe cechy:
- prawdziwa wielofunkcyjność – w całym łańcuchu technologicznym;
- elastyczność i możliwość rozbudowy;
- funkcje zorientowane na aplikacje, które ulepszają i upraszczają litografię poza specyfikacje;
- innowacyjny generator wzorów 50 MHz/20-bitowy oparty na FPGA;
- rozmiar wiązki - 1,2 nm, łączenie (stitching) - 25 nm, nakładanie - 25 nm;
- nowe funkcje autofokusa, stygmatyzacji, jasności i kontrastu.
Lepsze parametry, ulepszona wydajność
Nowy E-LINE oferuje nie tylko lepsze parametry rozmiaru wiązki, łączenia i nakładania, ale także znacznie ułatwia pracę z litografią.
