InterNanoPoland

Harald Wiesbauer i Anna Duduś z EVGroup będą brać udział w konferencji InterNanoPoland w Katowicach. EVGroup będzie miała swoje stanowisko.

Anna Duduś będzie miała wystąpienie:

Nanoimprint lithography (NIL) – from niche to high volume manufacturing

w czasie konferencji w Katowicach, w czwartek 17.10, o godz. 10:35.

Zapraszamy do wysłuchania wystąpienia i spotkań!

Więcej na internanopoland.com

Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google? Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł

Zobacz więcej w kategorii: Gospodarka

Projektowanie i badania

730 mln euro na APECS. Europa wzmacnia sektor mikroelektroniki

Produkcja elektroniki

Globalna ekspansja półprzewodników mocy GaN - rynek osiągnie 3,5 mld dolarów do 2031 roku

Komponenty

Infineon przejmuje C2i Semiconductors. Cel: zasilanie centrów danych AI

Produkcja elektroniki

Rynek półprzewodników mocy dla EV osiągnie wartość 14,5 mld dolarów

Komponenty

Google rozszerza współpracę z Marvell przy układach AI. Umowa obejmuje opcję zakupu akcji za 12,2 mld dolarów

Projektowanie i badania

BGK i EIF przeznaczają 129 mln zł na polskie startupy deep tech. W grze AI, cybersecurity i defense tech

Zobacz więcej z tagiem: Artykuły

Magazyn

Sierpień 2026

Targi zagraniczne

Electronica 2026 - targi i konferencja producentów elektroniki

Targi zagraniczne

Elmässan Stockholm 2026

Kompatybilność elektromagnetyczna

Historia EMC (electromagnetic compatibility) zaczyna się od potrzeby opanowania problemu: co zrobić, gdy jedno urządzenie zaczyna zakłócać pracę drugiego. Miała swój początek wraz z pojawianiem się coraz większej liczby urządzeń elektrycznych wykonujących bardziej złożone zadania. Początkowo problem ten miał charakter niemal przypadkowy, a przybrał rolę istotnego wyzwania technicznego wymagającego systematycznego podejścia. Aktualnie jest to obowiązkowy punkt w produkcji urządzeń elektrycznych oraz elektronicznych.