wersja mobilna
Online: 389 Piątek, 2017.12.15

Biznes

Sowar produkuje bezołowiowo

piątek, 23 czerwca 2006 09:38
Specjalizująca się w kontraktowej produkcji elektronicznej wrocławska firma Sowar zakończyła proces wymiany sprzętu produkcyjnego w celu zgodności produkcji z wymogami dyrektywy RoHS. W skład nowej linii technologicznej do lutowania bezołowiowego weszły agregat do lutowania na fali w osłonie azotowej oraz piec do lutowania rozpływowego. Dla prawidłowej instalacji linii technologicznej firma wybudowała również nową halę produkcyjną o powierzchni 750 m2. Na inwestycję, której wartość przekroczyła 2,5 mln zł, Sowar uzyskał wsparcie z funduszy unijnych (działanie 2.3 programu SPO WKP). Instalacja urządzeń zakończona została w marcu bieżącego roku, w maju nastąpiło przejście na produkcję w technologii bezołowiowej.
Specjalizująca się w kontraktowej produkcji elektronicznej wrocławska firma Sowar zakończyła proces wymiany sprzętu produkcyjnego w celu zgodności produkcji z wymogami dyrektywy RoHS. W skład nowej linii technologicznej do lutowania bezołowiowego weszły agregat do lutowania na fali w osłonie azotowej oraz piec do lutowania rozpływowego. Dla prawidłowej instalacji linii technologicznej firma wybudowała również nową halę produkcyjną o powierzchni 750 m2. Na inwestycję, której wartość przekroczyła 2,5 mln zł, Sowar uzyskał wsparcie z funduszy unijnych (działanie 2.3 programu SPO WKP). Instalacja urządzeń zakończona została w marcu bieżącego roku, w maju nastąpiło przejście na produkcję w technologii bezołowiowej.
 

Firmy w artykule

World News 24h

czwartek, 14 grudnia 2017 20:00

GlobalFoundries unveiled details of its 7nm process which promises a significant increase in density, performance and efficiency in comparison to the 14nm technology used to manufacture AMD processors, IBM Power server chips and other products. GlobalFoundries will start 7nm production using current lithography tools, though it plans to quickly move to next-generation EUV lithography to cut costs. Based on GlobalFoundries latest generation of 3D or FinFET transistors, the 7LP process has a fin pitch of 30nm, gate pitch of 56nm and a minimum metal pitch of 40nm - all of which are "significantly scaled from 14nm." GlobalFoundries said it tuned the fin shape and profile for best performance, but did not provide measurements for the width or height of the fins.

więcej na: www.zdnet.com

Produkty