W Błoniu pod Warszawą Delphi Technologies uruchamia nową fabrykę

Fabryka w Błoniu zajmuje obszar ponad 34,6 tys. m², z czego blisko 17,6 tys. będzie stanowić strefa produkcyjna. Nowy zakład będzie wspierał długofalowy rozwój firmy i umożliwi lepszą obsługę klientów.

Źródło: Delphi

Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google? Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł

Powiązane treści

Genius Electronic Optical zakupi sprzęt produkcyjny o wartości 73 mln dolarów

Huawei zbuduje w Brazylii fabrykę za 800 mln dolarów

AcBel Polytech rozbuduje swoje fabryki

Rośnie potencjał krajowych fabryk akumulatorów

Zobacz więcej w kategorii: Gospodarka

Zasilanie

Liteon przejmie 25% udziałów w polskiej DCX za 176 mln dolarów

Projektowanie i badania

Augmented Engineering w sektorze A&D - wyścig o przewagę technologiczną

Elektromechanika

Rynek czujników dla robotów humanoidalnych przekroczy 6,59 mld USD do 2037 roku. Nadchodzi sensoryczna rewolucja w robotyce

Produkcja elektroniki

Sztuczna inteligencja w przemyśle - koniec eksperymentów, czas na wyniki

Projektowanie i badania

IBM przejął HRL Laboratories. Wzmacnia rozwój technologii kwantowych

Zasilanie

Centra danych inwestują we własne zasilanie, by uniknąć kryzysu

Zobacz więcej z tagiem: Produkcja elektroniki

Gospodarka

Sztuczna inteligencja w przemyśle - koniec eksperymentów, czas na wyniki

Informacje z firm

Essemtec na TEK.day Gdańsk 2026

Gospodarka

Komisja Europejska aktualizuje zasady inwestycji EIC Fund

Kompatybilność elektromagnetyczna

Historia EMC (electromagnetic compatibility) zaczyna się od potrzeby opanowania problemu: co zrobić, gdy jedno urządzenie zaczyna zakłócać pracę drugiego. Miała swój początek wraz z pojawianiem się coraz większej liczby urządzeń elektrycznych wykonujących bardziej złożone zadania. Początkowo problem ten miał charakter niemal przypadkowy, a przybrał rolę istotnego wyzwania technicznego wymagającego systematycznego podejścia. Aktualnie jest to obowiązkowy punkt w produkcji urządzeń elektrycznych oraz elektronicznych.