Seminarium „From ARM for ARM”

Jest ono adresowane do doświadczonych konstruktorów systemów mikroprocesorowych oraz firm mających w perspektywie realizację zaawansowanych technicznie projektów bazujących rdzeniu ARM. Prezentacje będą obejmować oprogramowanie RealView Development Suite obsługujące wszystkie rdzenie ARM oraz środowisko IDE μVision4 z bibliotekami RTOS, TCP/IP, FFS, USB. Zaprezentowane zostaną także najnowsze techniki uruchamiania i testowania oprogramowania i urządzeń cyfrowych. Nie zabraknie też okazji do bezpośredniego spotkania z przedstawicielami ARM i okazyjnych ofert na produkty ARM i Keil.

Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google? Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł

Zobacz więcej w kategorii: Gospodarka

Produkcja elektroniki

Europejski rynek EMS odbija, ale problemem znów staje się łańcuch dostaw

Produkcja elektroniki

Targi i konferencja producentów elektroniki Electronica 2026

Optoelektronika

Semtech inwestuje w moce produkcyjne SiGe firmy Tower Semiconductor

Pomiary

Wielowarstwowy system detekcji dronów Ericsson, Play i Asseco. Technologia ISAC i 5G w ochronie infrastruktury krytycznej

Komponenty

Produkty Stäubli Fluid Connectors w dystrybucji Semicona. Nowy model sprzedaży i szybsze dostawy w Polsce

Produkcja elektroniki

Siemens i Nvidia rozwijają system kontroli PCB oparty na AI

Zobacz więcej z tagiem: Artykuły

Zobaczyć obiekt oczami radaru, czyli dlaczego potrzebujemy laboratorium do pomiarów RCS?

Radar postrzega świat inaczej niż człowiek. Zamiast obrazu tworzonego przez światło widzialne rejestruje echo wysłanej fali elektromagnetycznej. Na odpowiedź radarową obiektu wpływają nie tylko jego rozmiary, lecz także kształt, zastosowane materiały, częstotliwość oraz kierunek obserwacji. Dlatego dwa przedmioty o podobnych wymiarach mogą być dla radaru widoczne zupełnie inaczej. Jak zatem sprawdzić, co radar rzeczywiście "widzi"? Służą temu pomiary RCS, prowadzone między innymi w specjalistycznych laboratoriach, które zapewniają kontrolowane i powtarzalne warunki oraz umożliwiają uzyskanie dokładności wymaganej w danym zastosowaniu.