NHK i Nippon zaprezentowali ekran OLED o grubości 3 μm

| Gospodarka Optoelektronika

Firmy Japan Broadcasting Corporation (NHK) i Nippon Shokubai opracowały elastyczny ekran oparty o technologię OLED w formie folii o grubości 3 μm. Nowa forma charakteryzuje się wysoką wydajnością i stabilnością w wilgotnym powietrzu.

NHK i Nippon zaprezentowali ekran OLED o grubości 3 μm

Zastosowana technologia wstrzykiwania elektronów wykorzystuje wiązania wodoru między materiałami organicznymi. To umożliwia zachowanie wysokiej efektywności ekranu nawet w obecności tlenu i wilgoci.

Metale alkaliczne, które są często wykorzystywane do iniekcji elektronów w warstwie przewodzącej oferują wysoką efektywność, ale charakteryzują się słabą stabilnością w środowisku, powodując szybką degradację ekranu.

Firmy opracowały materiał OLED typu polaryzacyjnego z dodatkiem zasad organicznych zamiast metalu alkalicznego. Materiał ten dzięki polaryzacji może przez długi czas utrzymać wysoką efektywność, nawet gdy ekran OLED zostanie wytworzony w formie folii, która z łatwością przenosi wilgoć.

Opracowane rozwiązanie ma na celu przyszłą komercjalizację dużych ultracienkich i zwijanych wyświetlaczy OLED oraz zastosowanie ich w urządzeniach typu iOLED.

źródło: EE News Europe