Rynek metrologii i inspekcji półprzewodników przyspiesza: AI i zaawansowane pakowanie napędzają wzrost do ponad 18 mld USD

Rynek urządzeń do metrologii i inspekcji odnotował 15-procentowy wzrost w 2025 roku, osiągając wartość ponad 18 miliardów dolarów, co stanowi już około 14% całkowitych wydatków na sprzęt do produkcji płytek półprzewodnikowych (WFE). Zgodnie z analizą przedstawioną w najnowszym raporcie Yole Group pt. „Metrology & Inspection Equipment 2026”, do 2031 roku wartość tego rynku ma osiągnąć około 25 miliardów dolarów. Wzrost ten odzwierciedla zarówno cykliczne ożywienie w branży, jak i strukturalny wzrost znaczenia kontroli procesów.

Dodaj do ulubionych źródeł w Google
Posłuchaj
00:00

Wraz z rosnącą złożonością urządzeń, metrologia i inspekcja ewoluują ze standardowych funkcji wspierających produkcję w strategiczne narzędzia umożliwiające innowacje. Szybki rozwój infrastruktury związanej ze sztuczną inteligencją (AI) napędza zapotrzebowanie na pamięci HBM oraz technologie zaawansowanego pakowania układów. Branża przechodzi z tradycyjnego skalowania 2D do nowej ery definiowanej przez integrację 3D, ukryte struktury, łączenie hybrydowe (hybrid bonding) oraz pakiety heterogeniczne.

Nowe architektury półprzewodnikowe, takie jak Gate-All-Around (GAA), układy zasilania na odwrocie płytki (backside power delivery networks) oraz coraz wyższe stosy 3D NAND, kreują wyzwania pomiarowe, z którymi tradycyjne podejścia nie są w stanie już sobie samodzielnie poradzić. Zastosowanie zaawansowanych projektów oraz układów typu chiplet sprawia, że producenci mierzą się z nowymi zagrożeniami dotyczącymi uzysku (yield risks), do których należą przede wszystkim: wypaczenia materiału (warpage), dokładność pozycjonowania i osiowania (alignment accuracy), powstawanie pustych przestrzeni (voids) i zjawisko delaminacji, a także ukryte defekty i wady strukturalne.

Zaawansowane pakowanie, łączenie hybrydowe i wyzwania związane z High-NA EUV redefiniują wymagania dotyczące kontroli procesu i stwarzają możliwości wzrostu na rynku metrologii i inspekcji. Aby sprostać nowym wymaganiom, dziedzina kontroli procesu rozszerza się obecnie poza sam sprzęt, wkraczając w obszar oprogramowania, analityki, rozwiązań zintegrowanych oraz metrologii hybrydowej.

Liderami rynku, kontrolującymi największą jego część, pozostają firmy KLA, Applied Materials oraz Lasertec, jednak konkurencja stale się nasila, zwłaszcza w wysoce wyspecjalizowanych segmentach kontroli. Najsilniejsze wzrosty między 2024 a 2025 rokiem odnotowały podmioty nastawione na najbardziej dynamiczne obszary zapotrzebowania. ASML i ZEISS zyskały dzięki wdrażaniu technologii EUV oraz popytowi na metrologię masek i optyki, natomiast Hitachi High-Tech i Nova skorzystały ze zwiększonego zapotrzebowania na wiodące układy logiczne i pamięci. Z kolei dynamiczny rozwój firmy Skyverse jest odzwierciedleniem dążeń do lokalizacji produkcji w Chinach.

Eksperci Yole Group zauważają również rosnący wpływ geopolityki na łańcuchy dostaw. Kontrole eksportowe i polityki regionalne prowadzą do większego rozdrobnienia rynku oraz szybszego tworzenia lokalnych ekosystemów produkcyjnych, choć na ten moment Ameryka Północna, Japonia i Europa niezmiennie dominują w globalnym łańcuchu wartości tego sektora.

Ponieważ ewolucja innowacji przesuwa środek ciężkości na architektury 3D i systemy napędzane przez sztuczną inteligencję, kontrola procesu będzie w najbliższych latach kluczowym wyróżnikiem strategicznym w łańcuchu wartości półprzewodników. Zrozumienie trendów i technologii z zakresu metrologii staje się dziś warunkiem niezbędnym dla każdego, kto chce skutecznie konkurować na globalnym rynku.

Źródło: Yole Group

Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google? Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł
Powiązane treści
Zaawansowane pakowanie półprzewodników - AI i HBM zmieniają układ sił w branży
Zobacz więcej w kategorii: Gospodarka
Komunikacja
Orbitalne centra danych przestają być konceptem rodem z sci-fi
Projektowanie i badania
Infineon i ZuriQ rozwijają współpracę nad skalowalnymi procesorami kwantowymi
Komunikacja
Cisco otworzyło w Krakowie laboratorium sieci dla AI. Niemal 400 szaf serwerowych i 4 MW mocy IT
Zasilanie
Agrowoltaika jako odpowiedź na rosnące problemy energetyczne
Produkcja elektroniki
Infineon i Wolfspeed zawierają umowę na dostawy 200-milimetrowych podłoży z węglika krzemu
PCB
Firma Printed Circuit Board Technology wyróżniona tytułem "Brylant Polskiej Gospodarki 2025"
Zobacz więcej z tagiem: Pomiary
Prezentacje firmowe
Zaawansowana diagnostyka komunikacji w bramkach Moxa MGate MB3000-G2
Informacje z firm
Swire Coca-Cola optymalizuje utrzymanie ruchu dzięki sztucznej inteligencji i MLnext
Opinie
Lokalizacja bez GPS-a coraz bardziej potrzebna

Zobaczyć obiekt oczami radaru, czyli dlaczego potrzebujemy laboratorium do pomiarów RCS?

Radar postrzega świat inaczej niż człowiek. Zamiast obrazu tworzonego przez światło widzialne rejestruje echo wysłanej fali elektromagnetycznej. Na odpowiedź radarową obiektu wpływają nie tylko jego rozmiary, lecz także kształt, zastosowane materiały, częstotliwość oraz kierunek obserwacji. Dlatego dwa przedmioty o podobnych wymiarach mogą być dla radaru widoczne zupełnie inaczej. Jak zatem sprawdzić, co radar rzeczywiście "widzi"? Służą temu pomiary RCS, prowadzone między innymi w specjalistycznych laboratoriach, które zapewniają kontrolowane i powtarzalne warunki oraz umożliwiają uzyskanie dokładności wymaganej w danym zastosowaniu.
Zapytania ofertowe
Unikalny branżowy system komunikacji B2B Znajdź produkty i usługi, których potrzebujesz Katalog ponad 7000 firm i 60 tys. produktów