wersja mobilna
Online: 425 Piątek, 2017.12.15

Biznes

Współpraca Elpida i Powerchip

piątek, 05 stycznia 2007 10:29

Firma Elpida (Tokio, Japonia) wraz z Powerchip Semiconductor (Hsinchu, Tajwan) stworzą spółkę joint-venture, której obszarem działań będzie produkcja pamięci DRAM. Efektem współpracy ma być powstanie fabryki pamięci DRAM na Tajwanie, gdzie ma być miesięcznie przetwarzane 240 tys. 12-calowych płytek podłożowych. W ramach współpracy firmy mają również prowadzić wspólne badania nad procesem technologicznym 50nm.

Omawiana kooperacja jest dla obydwu firm zmianą dotychczasowej strategii biznesowej. Elpida jest piątym, a PSC siódmym pod względem wielkości producentem pamięci DRAM. O ile dotychczas firmy koncentrowały się na różnych sektorach rynku, utworzona spółka ma kierować swoją ofertę do producentów podzespołów komputerowych. Początkowo produkcja odbywać się będzie w będącym na ukończeniu zakładzie należącym do PSC, dzięki czemu pierwsze układy grupy już niebawem pojawią się na rynku. Tymczasem nowy zakład w Taichung ma rozpocząć działalność pod koniec 2007 roku. Koszt jego budowy to 1,4 mld dolarów, a początkowa zdolność produkcyjna ma wynosić 30 tys. płytek podłożowych. Docelowa wydajność ma być osiągnięta mniej więcej po czterech do pięciu latach działania. Całkowity koszt inwestycji szacowany jest na 13,9 mld dol.

 

World News 24h

czwartek, 14 grudnia 2017 20:00

GlobalFoundries unveiled details of its 7nm process which promises a significant increase in density, performance and efficiency in comparison to the 14nm technology used to manufacture AMD processors, IBM Power server chips and other products. GlobalFoundries will start 7nm production using current lithography tools, though it plans to quickly move to next-generation EUV lithography to cut costs. Based on GlobalFoundries latest generation of 3D or FinFET transistors, the 7LP process has a fin pitch of 30nm, gate pitch of 56nm and a minimum metal pitch of 40nm - all of which are "significantly scaled from 14nm." GlobalFoundries said it tuned the fin shape and profile for best performance, but did not provide measurements for the width or height of the fins.

więcej na: www.zdnet.com

Produkty