wersja mobilna
Online: 999 Piątek, 2018.02.23

Biznes

SEMI podniósł prognozę wydatków na wyposażenie fabryk

wtorek, 29 marca 2011 08:42

Według stowarzyszenia SEMI w obecnym roku wydatki na fabryki na całym świecie, łącznie z ich budową, zapleczem i wyposażeniem, mogą wzrosnąć o 22%, w tym wydatki na samo wyposażenie fabryk o 28% w porównaniu do 2010 r. Jednocześnie SEMI przewiduje, że w 2012 r. wydatki te zmniejszą się o 5% w ujęciu rocznym.

Jeszcze w grudniu 2010 r. SEMI przewidywało, że wydatki na projekty budowy i modernizacji fabryk wzrosną w 2011 r. o 18,3%, w tym o tyle samo wzrosnąć miały wydatki na wyposażenie fabryk. Łączne wydatki na budowę i wyposażenie fabryk mogą w tym roku wynieść 47,2 mld dol., podczas gdy w 2010 r. wyniosły one 38,6 mld dol., poinformowało stowarzyszenie. W ten sposób pobity zostałby rekord z 2007 r. kiedy to inwestycje w narzędzia produkcyjne wyniosły łącznie 46,4 mld dol.

Niektórzy dostawcy półprzewodników zwiększyli nakłady kapitałowe. TSMC podniósł inwestycje z rekordowych 5,9 mld dol. w roku ubiegłym do ponownie rekordowych 7,8 mld dol. w 2011 r. Intel zwiększył wydatki z 5,2 mld dol. w roku ubiegłym do planowanych 9 mld obecnie, a GlobalFoundries je w tym roku podwoił do kwoty 5,4 mld dol.

 

World News 24h

piątek, 23 lutego 2018 19:54

Toshiba has developed TaRF10, a new version of its TarfSOI CMOS process optimized for low-noise amplifiers in smartphone applications. In recent years, the increasing speed of mobile data communication has expanded the use of RF switches and filters in the analog front end of mobile devices. The resulting increase in signal loss between the antenna and receiver circuits has degraded receiver sensitivity, and focused attention on LNAs with a low Noise Figure as a means to compensate for signal loss and improve the integrity of the received signal. Toshiba has used its new TaRF10 process to develop a prototype LNA with avnoise figure of 0.72dB and a gain of 16.9dB at a frequency of 1.8GHz.

więcej na: www.electronicsweekly.com