Co dalej z fotolitografią?

Wydawać by się mogło, że w dobie nieustająco silnego trendu zmniejszania wymiaru technologicznego układów scalonych, rynek masek fotolitograficznych jest bardzo rentowną branżą. Jednak, mimo iż ceny masek poszybowały ostatnio mocno w górę, w sektorze od jakiegoś czasu obserwowalne jest wyraźne spowolnienie, odzwierciedlające coraz to większy zastój w całym przemyśle półprzewodnikowym. Paradoksalnie do rozwoju rynku ceny fotomasek rosną, a liczba ich producentów stale maleje.

Dodaj do ulubionych źródeł w Google
Posłuchaj
00:00

W ostatnich dwóch dekadach na rynku fotomasek nastąpiły ogromne zmiany. Na początku lat 90. ubiegłego wieku, w złotym okresie dla tego sektora, na świecie było 122 producentów masek fotolitograficznych, a obecnie jest ich zaledwie 68. Można wśród nich wyróżnić trzy główne grupy przedsiębiorstw:

- producentów chipów, posiadających własne działy produkcji fotomasek, takich jak IBM, Intel, Micron, Samsung, SMIC, czy TSMC, - niszowe firmy, wyspecjalizowane w konkretnych produktach, takie jak Hoya, czy Taiwan Mask, - niezależnych dużych producentów fotomasek, do których należą przede wszystkim trzy firmy: japońskie Toppan Photomask i Dai Nippon Printing oraz amerykański Photronics.

Według wielu analityków, w 2008 roku na rynku fotomasek obserwowalne będzie wyraźne spowolnienie, odzwierciedlające generalne nastroje w przemyśle półprzewodnikowym. Pierwszym tego symptomem jest fakt, że patrząc pod kątem rozmiarów produkcji, wejście technologii 65nm jest już mniej więcej o rok opóźnione w stosunku do prognoz, gdyż jak na razie jedynie Intel i kilku innych producentów oferuje układy scalone o tym wymiarze technologicznym. Drugim czynnikiem wpływającym na niekorzystną sytuację są mocno rosnące, wraz z miniaturyzacją, koszty wytwarzania fotomasek, które dodatkowo spowalniają proces wchodzenia na rynek wymiaru technologicznego 45nm. Cena za zestaw masek, przy przejściu z wymiaru 90nm na 65nm, zwiększyła się średnio o 80%. Jednocześnie przewiduje się, że cena ta wzrośnie o kolejne 120% przy przejściu z wymiaru 65nm do 45nm.

Dobitnym przykładem problemów na rynku jest firma Photronics, jedyny pozostały w USA niezależny duży producent sfotomasek. Od pewnego czasu krążą plotki, że Photronics jest w trudnej sytuacji ekonomicznej i prowadzi rozmowy z potencjalnym inwestorem strategicznym. Jednak, jeśli Photronics zostałby sprzedany inwestorowi spoza USA, to Stany Zjednoczone pozostałyby bez dużego niezależnego producenta fotomasek. Przejęcie to miałoby również poważne implikacje dla firmy Micron. Obie firmy założyły bowiem w maju 2006 spółkę joint venture, MP Mask, której głównym celem są prace nad maksymalizacją liczby rodzajów układów scalonych wytwarzanych na jednej płytce krzemu. Jej przyszłość byłaby pod znakiem zapytania.

Karol Flont

Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google? Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł
Powiązane treści
Samsung kupił skanery ASML do litografii EUV
Intel przejmuje udziały w ASML, aby przyspieszyć wdrożenie technologii 450mm i EUV
Litografia EUV - ożywienie na rynku?
Zobacz więcej w kategorii: Gospodarka
Zasilanie
Infineon sfinalizował przejęcie C2i Semiconductors. Wzmocni rozwiązania zasilania dla centrów danych AI
Elektromechanika
Więcej zaawansowanych i wytrzymałych rozwiązań połączeniowych - Farnell nawiązuje współpracę z Amphenol Nexus Technologies
Komunikacja
Europa poniesie olbrzymie koszty usuwania chińskiej technologii
Zasilanie
SMA otwiera w Niemczech nową fabrykę gigawatową. Inwestycja za 80 mln euro wzmocni europejski przemysł OZE
Aktualności
Farnell nominuje dr Sarę Ghaemi na stanowisko Regional Sales Director dla regionów Beneluksu i DACH
Produkcja elektroniki
Electro Welle inwestuje blisko 20 mln zł w rozwój zakładu w Marcinkowicach
Zobacz więcej z tagiem: Artykuły
Magazyn
Wrzesień 2026
Magazyn
Sierpień 2026
Targi zagraniczne
Electronica 2026 - targi i konferencja producentów elektroniki

Zobaczyć obiekt oczami radaru, czyli dlaczego potrzebujemy laboratorium do pomiarów RCS?

Radar postrzega świat inaczej niż człowiek. Zamiast obrazu tworzonego przez światło widzialne rejestruje echo wysłanej fali elektromagnetycznej. Na odpowiedź radarową obiektu wpływają nie tylko jego rozmiary, lecz także kształt, zastosowane materiały, częstotliwość oraz kierunek obserwacji. Dlatego dwa przedmioty o podobnych wymiarach mogą być dla radaru widoczne zupełnie inaczej. Jak zatem sprawdzić, co radar rzeczywiście "widzi"? Służą temu pomiary RCS, prowadzone między innymi w specjalistycznych laboratoriach, które zapewniają kontrolowane i powtarzalne warunki oraz umożliwiają uzyskanie dokładności wymaganej w danym zastosowaniu.
Zapytania ofertowe
Unikalny branżowy system komunikacji B2B Znajdź produkty i usługi, których potrzebujesz Katalog ponad 7000 firm i 60 tys. produktów