Inwestycja kosztowała 2,5 mld euro z czego 700 mln pochodziło z funduszy UE, kolejne 700 mln - od rządów krajowych i regionalnych, a resztę wpłaciła firma ASML i inni partnerzy branżowi.
NanoIC to jednocześnie pierwszy europejski zakład, w którym wdrożono najnowocześniejsze systemy litografii w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV), umożliwiające badania i rozwój technologii chipów poniżej węzła dwóch nanometrów. To stawia Europę bliżej czołówki w produkcji półprzewodników – w obszarze, który do tej pory był w dużej mierze zdominowany przez graczy azjatyckich i amerykańskich.
NanoIC zapewnia przedsiębiorstwom otwarty dostęp do technologii. Mogą z niej korzystać startupy, MŚP, instytuty badawcze i duże podmioty przemysłowe, co zmniejsza bariery wejścia. Zakładem zarządza konsorcjum placówek badawczych, jak Imec (Belgia), CEA-Leti (Francja), Fraunhofer (Niemcy), VTT (Finlandia), CSSNT (Rumunia) oraz irlandzki Narodowy Instytut Tyndalla.
NanoIC jest jedną z pięciu europejskich linii pilotażowych budowanych w ramach Ustawy o Chipach, obok FAMES, APECS, WBG i PIX Europe. Projekt ten realizowano 4 lata.
