IMEC otrzymał od ASML jeden z pierwszych systemów do litografii EUV do swojego zakładu produkcji pilotażowej operującego na płytkach 300mm. Obecnie obie firmy koncentrują prace m.in. na poprawie jakości i wydajności maszyn do litografii UEV.
Poza przewidzianą na listopad br. instalacją w IMEC systemu NXT1950i, najnowszego narzędzia ASML do litografii immersyjnej 193nm, producent narzędzi dostarczył instytutowi na wiosnę system EUV NXE:3100 (preproduction), a obecnie zamierza zainstalować jego następcę, system NXE:3300B (production ready).
MT
Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google?
Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł
