ASML i IMEC odnowiły umowę o współpracy

IMEC otrzymał od ASML jeden z pierwszych systemów do litografii EUV do swojego zakładu produkcji pilotażowej operującego na płytkach 300mm. Obecnie obie firmy koncentrują prace m.in. na poprawie jakości i wydajności maszyn do litografii UEV.

Poza przewidzianą na listopad br. instalacją w IMEC systemu NXT1950i, najnowszego narzędzia ASML do litografii immersyjnej 193nm, producent narzędzi dostarczył instytutowi na wiosnę system EUV NXE:3100 (preproduction), a obecnie zamierza zainstalować jego następcę, system NXE:3300B (production ready).

Powiązane treści

W 2017 roku ASML wzmocnił dominację na rynku litografii półprzewodników

Samsung kupił skanery ASML do litografii EUV

Synopsys i Imec rozwijają współpracę w zakresie TCAD

Imec partnerem Coventora w rozwoju zaawansowanych technologii CMOS

ASML odnotował spadek liczby zamówień

Europejski IMEC zakłada centrum badawcze na Tajwanie

TSMC i IMEC rozpoczną wspólne pracę badawcze

Zobacz więcej w kategorii: Gospodarka

Projektowanie i badania

Elastyczny chip AI cieńszy niż ludzki włos. FLEXI może zmienić rynek elektroniki wearables

Komponenty

Rekordowe wyniki Apple pod presją niedoborów chipów. AI zmienia układ sił w branży półprzewodników

Aktualności

Przez sztuczną inteligencję silnie rośnie skala cyberataków w chmurze

Komponenty

Dell i NVIDIA fundamentem największej fabryki AI w Indiach: 4000 GPU Blackwell dla NxtGen

Produkcja elektroniki

Yamaha Robotics stawia na półprzewodniki. Nowa struktura wzmocni obsługę procesów back-end w Europie

Projektowanie i badania

Mitsubishi Electric i MHI inwestują w następcę modułu ISS. Nowa era komercjalizacji orbity LEO

Zobacz więcej z tagiem: Artykuły

Kiedy projekt elektroniki jest „wystarczająco dobry”, a kiedy staje się ryzykiem biznesowym

W projektowaniu elektroniki bardzo łatwo wpaść w pułapkę myślenia: „działa, więc jest OK”. Układ się uruchamia, firmware odpowiada, prototyp przechodzi testy na biurku. I na tym etapie wiele zespołów uznaje projekt za „wystarczająco dobry”. O decyzjach „good enough”, presji czasu i momentach, w których inżynieria zaczyna generować straty.