Samsung zwiększa zdolności produkcyjne w technologii EUV

Samsung Electronics, w celu pokrycia rosnącego zapotrzebowania na proces technologiczny EUV ogłosił plany zwiększenia wydajności nowej linii produkcyjnej zlokalizowanej w Pyeongtaek, w Korei. Linia ta ma być przeznaczona dla chipów wytwarzanych w 5-nanometrowej litografii i niższej. Firma rozpoczęła rozbudowę i oczekuje, że linia będzie gotowa w drugiej połowie 2021 roku.

Dodaj do ulubionych źródeł w Google
Posłuchaj
00:00

Na początku 2019 roku Samsung uruchomił masową produkcję 7-nanometrowych chipów z wykorzystaniem technologii EUV. Koreański koncern niedawno ustanowił dedykowaną linię produkcyjną oznaczoną jako V1 dla tego procesu w Hwaseong, w Korei. Po planowanym w 2021 roku uruchomieniu nowego zakładu w Pyeongtaek, firma spodziewa się znacznego wzrostu swoich mocy produkcyjnych opartych o EUV.

​​Samsung poinformował, że w drugiej połowie 2020 roku ma rozpocząć masową produkcję 5-nanometrowych chipów w procesie EUV w fabryce zlokalizowanej w Hwaseong. Po utworzeniu zakładu foundry w Pyeongtaek, Samsung będzie posiadał łącznie siedem obiektów produkcyjnych rozmieszczonych w Korei Południowej i Stanach Zjednoczonych, dysponujących sześcioma liniami obsługującymi 12- i 8-calowe wafle krzemowe.

Źródło: Digitimes

Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google? Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł
Powiązane treści
TSMC opracowało nową technikę czyszczenia dla maski EUV
Chińscy i tajwańscy producenci przejmą zamówienia od Samsung Display
Samsung notuje rekordowy udział w tajwańskim rynku smartfonów
Samsung i LG zajęli czołową pozycję na światowym rynku wyświetlaczy
Samsung Display wycofuje się z rynku wyświetlaczy LCD
Google otrzymał od Samsunga pierwsze egzemplarze zamówionych chipów
SK hynix ukończyl budowę fabryki produkującej DRAM w litografii EUV
Zobacz więcej w kategorii: Gospodarka
Zasilanie
Infineon sfinalizował przejęcie C2i Semiconductors. Wzmocni rozwiązania zasilania dla centrów danych AI
Elektromechanika
Więcej zaawansowanych i wytrzymałych rozwiązań połączeniowych - Farnell nawiązuje współpracę z Amphenol Nexus Technologies
Komunikacja
Europa poniesie olbrzymie koszty usuwania chińskiej technologii
Zasilanie
SMA otwiera w Niemczech nową fabrykę gigawatową. Inwestycja za 80 mln euro wzmocni europejski przemysł OZE
Aktualności
Farnell nominuje dr Sarę Ghaemi na stanowisko Regional Sales Director dla regionów Beneluksu i DACH
Produkcja elektroniki
Electro Welle inwestuje blisko 20 mln zł w rozwój zakładu w Marcinkowicach
Zobacz więcej z tagiem: Produkcja elektroniki
Prezentacje firmowe
Nowa, piąta generacja systemu Raith PIONEER - przełomowa hybryda EBL-SEM w ofercie firmy PROKON
Technika
Analiza przyczyn wad montażu SMT i ograniczenia systemów inspekcyjnych
Technika
Dokumentacja do wyceny montażu PCBA – jak przygotować kompletny pakiet danych?

Zobaczyć obiekt oczami radaru, czyli dlaczego potrzebujemy laboratorium do pomiarów RCS?

Radar postrzega świat inaczej niż człowiek. Zamiast obrazu tworzonego przez światło widzialne rejestruje echo wysłanej fali elektromagnetycznej. Na odpowiedź radarową obiektu wpływają nie tylko jego rozmiary, lecz także kształt, zastosowane materiały, częstotliwość oraz kierunek obserwacji. Dlatego dwa przedmioty o podobnych wymiarach mogą być dla radaru widoczne zupełnie inaczej. Jak zatem sprawdzić, co radar rzeczywiście "widzi"? Służą temu pomiary RCS, prowadzone między innymi w specjalistycznych laboratoriach, które zapewniają kontrolowane i powtarzalne warunki oraz umożliwiają uzyskanie dokładności wymaganej w danym zastosowaniu.
Zapytania ofertowe
Unikalny branżowy system komunikacji B2B Znajdź produkty i usługi, których potrzebujesz Katalog ponad 7000 firm i 60 tys. produktów