InterNanoPoland

Harald Wiesbauer i Anna Duduś z EVGroup będą brać udział w konferencji InterNanoPoland w Katowicach. EVGroup będzie miała swoje stanowisko.

Anna Duduś będzie miała wystąpienie:

Nanoimprint lithography (NIL) – from niche to high volume manufacturing

w czasie konferencji w Katowicach, w czwartek 17.10, o godz. 10:35.

Zapraszamy do wysłuchania wystąpienia i spotkań!

Więcej na internanopoland.com

Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google? Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł

Zobacz więcej w kategorii: Technika

Elektromechanika

Miniaturyzacja w przekaźnikach - odpowiedź na rosnące ceny surowców

Projektowanie i badania

Wydajne projektowanie elektroniki mocy dzięki InfineonSPICE i IPOSIM

Mikrokontrolery i IoT

Czy każde urządzenie AI musi być połączone z chmurą?

Zasilanie

Chroń instalacje WN za pomocą bezpiecznika E-Fuse na bazie SiC

Mikrokontrolery i IoT

Układy analogowe od 3PEAK

Projektowanie i badania

Badania Kompatybilności Elektromagnetycznej w Laboratoriach OBR CTM SAC 10 - normy ogólne i obronne oraz nowe metody EMC dla urządzeń trójfazowych, medycznych i laboratoryjnych

Zobacz więcej z tagiem: Artykuły

Electronica 2026 - targi i konferencja producentów elektroniki

Kompatybilność elektromagnetyczna

Historia EMC (electromagnetic compatibility) zaczyna się od potrzeby opanowania problemu: co zrobić, gdy jedno urządzenie zaczyna zakłócać pracę drugiego. Miała swój początek wraz z pojawianiem się coraz większej liczby urządzeń elektrycznych wykonujących bardziej złożone zadania. Początkowo problem ten miał charakter niemal przypadkowy, a przybrał rolę istotnego wyzwania technicznego wymagającego systematycznego podejścia. Aktualnie jest to obowiązkowy punkt w produkcji urządzeń elektrycznych oraz elektronicznych.