Fabryka MEMS w moskiewskim centrum Technopolis ma mieć zdolność wytworzenia soczewek i innych komponentów do 20 systemów do litografii Mappera rocznie. W fabryce powstawać będą m.in. przekładki dystansowe, krzemowe soczewki elektroniczne do ogniskowania i kolimacji wiązek elektronów, a także zaawansowane układy elektroniczne do elektrod sterujących.
Systemy do litografii Mappera pracują w oparciu o technologię wiązek elektronowych (e-beam), która, obok EUV, może znaleźć zastosowanie w skanerach do litografii następnej generacji. Firma ściśle współpracuje z instytutem CEA-Leti oraz dostawcą kontraktowym TSMC.
Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google?
Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł
