Toshiba zwiększa o 45% inwestycje w półprzewodniki mocy

Środki zostaną przeznaczone na budowę zakładu produkcyjnego na terenie spółki zależnej Kaga Toshiba Electronics w prefekturze Ishikawa, która ma rozpocząć się wiosną 2023 roku. Sfinansują również instalację nowej linii produkcyjnej w istniejącym obiekcie. Szacuje się, że modernizacja pozwoli zwiększyć wydajność linii produkcyjnych o około 150%.

Rozbudowa zasobów produkcyjnych obejmie nie tylko układy zasilające, ale także chipy nowej generacji GaN i SiC. Toshiba zwiększy również nakłady na rozwój i produkcję dysków twardych. Firma ogłosiła, że opracowała technologię pamięci, która pozwoli na pomieszczenie 30 TB danych na dysku twardym. Jest to o 70% więcej niż pojemność oferowana przez dyski obecnie. Firma planuje wcześniejszą komercjalizację nowej technologii.

W ciągu pięciu lat Toshiba zamierza przeznaczyć 290 mld jenów na rozwój technologii. W poprzednim pięcioletnim okresie inwestycji firma zainwestowała łącznie 150 mld jenów. Toshiba przedstawiła plany stworzenia trzech spółek zajmujących się infrastrukturą, urządzeniami i pamięciami półprzewodnikowymi. Główni akcjonariusze wyrazili sprzeciw wobec tego działania i nie ma pewności, czy te plany zostaną zrealizowane.