Rusza masowa produkcja pierwszej na świecie 12-warstwowej pamięci HBM3E

Firma SK hynix Inc. ogłosiła rozpoczęcie masowej produkcji pierwszego na świecie 12-warstwowego układu DRAM - HBM3E o pojemności 36 GB. Wcześniej maksymalna pojemność wynosiła 24 GB, co wynikało z ośmiu pionowo ułożonych warstw DRAM o pojemności 3 GB. HBM - High Bandwidth Memory - to wysokowydajna pamięć, która łączy pionowo wiele układów DRAM i znacznie zwiększa szybkość przetwarzania danych w porównaniu z tradycyjnymi chipami DRAM. HBM3E to rozszerzona wersja HBM3, produktu czwartej generacji, który zastępuje poprzednie generacje HBM, HBM2 i HBM2E.

Posłuchaj
00:00

Firma udowadnia swoją wiodącą pozycję technologiczną, oferując nowy zaawansowany produkt sześć miesięcy po dostarczeniu klientom, jako pierwsza w branży, 8-warstwowego układu HBM3E w marcu tego roku. SK hynix jest jedyną firmą na świecie, która od czasu wprowadzenia na rynek pierwszego na świecie chipa HBM w 2013 roku opracowała i wprowadziła całą linię HBM od pierwszej (HBM1) do piątej generacji (HBM3E). Firma planuje utrzymać pozycję lidera na rynku pamięci AI, odpowiadając na rosnące potrzeby klientów zajmujących się sztuczną inteligencją.

Według SK hynix, 12-warstwowy układ HBM3E spełnia najwyższe światowe standardy we wszystkich obszarach, które są niezbędne dla pamięci AI, w tym dotyczące szybkości, pojemności i stabilności.

Zwiększono prędkość operacji pamięci do 9,6 Gb/s, co jest najwyższą dostępną obecnie prędkością pamięci. Jeśli Large Language Model "Llama 3 70B" jest obsługiwany przez pojedynczy procesor graficzny wyposażony w cztery układy HBM3E, może odczytać łącznie 70 mld parametrów 35 razy w ciągu sekundy.

Zwiększono pojemność o 50% poprzez zbudowanie 12 warstw DRAM o pojemności 3 GB, o tej samej grubości, co poprzedni ośmiowarstwowy produkt. Aby to osiągnąć, każdy układ DRAM jest o 40% cieńszy niż wcześniej i ułożony pionowo przy użyciu technologii TSV4 (Through Silicon Via).

Rozwiązano również problemy strukturalne, które wynikają z wyższego układania cieńszych chipów, stosując zaawansowany proces MR-MUF (Mass Reflow Molded Underfill). Pozwala to zapewnić o 10% wyższą wydajność rozpraszania ciepła w porównaniu z poprzednią generacją oraz zapewnić stabilność i niezawodność produktu dzięki ulepszonej kontroli zniekształceń.

Źródło: SK hynix

Powiązane treści
Nowa technologia pamięci RRAM
SK Hynix inwestuje 6,77 mld dolarów, nadając priorytet pamięciom DRAM
SK hynix pompuje miliardy w chipy HBM
SK Hynix notuje kwartalny zysk po czterech kwartałach strat
SK Hynix opracowuje 238-warstwową pamięć flash 4D NAND
Zobacz więcej w kategorii: Gospodarka
Pomiary
Certyfikowane urządzenia medyczne zmieniają rynek gadżetów fitness
Produkcja elektroniki
Chiny rozszerzają ograniczenia eksportowe na metale ziem rzadkich
Zasilanie
Infineon i SolarEdge rozwijają platformę transformatorów półprzewodnikowych dla centrów danych AI
PCB
Eurocircuits startuje z konkurencyjną ofertą płytek HDI
Mikrokontrolery i IoT
Ceva i Microchip wspólnie napędzają rozwój sztucznej inteligencji w urządzeniach brzegowych
Produkcja elektroniki
Chińska branża MEMS w silnym trendzie wzrostowym
Zobacz więcej z tagiem: Aktualności
Informacje z firm
Dacpol - eventowy rozkład jazdy
Informacje z firm
Atrakcyjna oferta outletowa w sklepie internetowym Grupy RENEX
Gospodarka
Unisystem na targach MATELEC 2025 w Madrycie

Najczęstsze błędy przy projektowaniu elektroniki i jak ich uniknąć

W elektronice „tanio” bardzo często znaczy „drogo” – szczególnie wtedy, gdy oszczędza się na staranności projektu. Brak precyzyjnych wymagań, komponent wycofany z produkcji czy źle poprowadzona masa mogą sprawić, że cały produkt utknie na etapie montażu SMT/THT albo testów funkcjonalnych. Konsekwencje są zawsze te same: opóźnienia i dodatkowe koszty. Dlatego warto znać najczęstsze błędy, które pojawiają się w projektach elektroniki – i wiedzieć, jak im zapobiegać.
Zapytania ofertowe
Unikalny branżowy system komunikacji B2B Znajdź produkty i usługi, których potrzebujesz Katalog ponad 7000 firm i 60 tys. produktów