Zdaniem producenta, podkreślającego ogromne znaczenie tego rozwiązania dla całej branży, ELPHY był kamieniem węgielnym portfolio RAITH i systemem wprowadzającym do świata litografii dla setek klientów. To odnoszący największe sukcesy na świecie generator wzorów, który jest nieustannie ulepszany.
Nowe funkcje i bezprecedensowa wydajność
Dziewiąta generacja ELPHY wprowadza innowacyjny generator wzorów, który osiąga maksymalną prędkość zapisu na poziomie 50 MHz przy 20-bitowej rozdzielczości. Użycie 20-bitowej rozdzielczości – w miejsce dotychczasowego standardu 16-bitowego – pozwala na zastosowanie znacznie gęstszej siatki projektowej i ekspozycyjnej przy zachowaniu tych samych rozmiarów pola zapisu. W praktyce oznacza to znaczne zminimalizowanie szorstkości krawędzi linii, płynniejsze struktury oraz zwiększenie wierności odwzorowania.
Aby zagwarantować optymalną jakość sygnału o najniższym poziomie szumów, który jest kierowany do zewnętrznego interfejsu skanowania w mikroskopie elektronowym, system ELPHY zapewnia różnicowe wyjścia sygnału skanowania. ELPHY jest teraz szybszy i precyzyjniejszy niż kiedykolwiek wcześniej, zapewniając większą dokładność rozmieszczania i wierność odwzorowania.
Korekcja zniekształceń i profesjonalne oprogramowanie
Standardowe mikroskopy SEM zazwyczaj nie są zoptymalizowane pod kątem precyzyjnych, kwadratowych pól widzenia, co staje się widoczne przy oddaleniu rzędu dziesiątek czy setek mikrometrów. Nowy ELPHY rozwiązuje ten problem, oferując zaawansowaną procedurę wyrównywania pola zapisu wykorzystującą aż do 8 punktów odniesienia. Pozwala to na znaczną redukcję naturalnych zniekształceń pola zapisu mikroskopu, co przekłada się na znacznie lepszą dokładność rozmieszczania wzorów, szczególnie w rogach średnich i dużych pól.
Warto również zaznaczyć, że nowy system został wyposażony w najbardziej profesjonalne oprogramowanie litograficzne – najnowszą wersję pakietu RAITH Nanosuite, które zostało przeniesione do ELPHY z zaawansowanych systemów "pod klucz" firmy RAITH.
Kluczowe możliwości 9. generacji ELPHY
Dzięki instalacji systemu użytkownicy zyskują szereg zaawansowanych funkcji, do których należą między innymi:
- zdalny dostęp do kluczowych parametrów i funkcji mikroskopu (m.in. wygaszanie wiązki, ostrość, sterowanie stolikiem);
- obsługa plików GDSII wraz z autorskim edytorem RAITH oraz funkcjonalnością tworzenia wzorów na obrazie (Patterning on image);
- technologia PerfectShapes oferująca elastyczne tryby skanowania kierunkowego w celu zminimalizowania szorstkości krawędzi linii;
- zaawansowane funkcje litografii, wspierające procesy 3D, FEBIP/FIBIP oraz korekcję efektu sąsiedztwa (proximity);
- możliwość automatyzacji zadań wsadowych, w tym obsługa skryptów;
- kompleksowa integracja przebiegu pracy oraz elastyczność i automatyzacja złożonych procesów.
ELPHY stanowi dziś najbardziej wszechstronną przystawkę do nanolitografii, wyznaczając nowe standardy (benchmark) w tej dziedzinie, zachowując przy tym pełną, oryginalną funkcjonalność mikroskopów. Szczegółowe informacje oraz ofertę dotyczącą systemu na rynku polskim można uzyskać bezpośrednio u oficjalnego dystrybutora – firmy PROKON.
Źródło: Prokon Katarzyna Piekarska, RAITH GmbH
Więcej na prokon-elektronika.pl
