Bezkompromisowa architektura hybrydowa
Od chwili debiutu rynkowego system PIONEER zajmuje osobną pozycję w obszarze zaawansowanej nanofabrykacji. Budowa urządzenia odbiega od standardowych konstrukcji powstałych poprzez adaptację tradycyjnego mikroskopu. Jak podkreślono w specyfikacji technologicznej, w przeciwieństwie do konwencjonalnych zestawów łączących mikroskop elektronowy (SEM) z generatorem wzorów, został on od podstaw zaprojektowany jako prawdziwie hybrydowe rozwiązanie, łączące najnowocześniejszą litografię wiązką elektronów (EBL) z zaawansowanymi możliwościami obrazowania SEM.
Zintegrowana koncepcja sprzętowa umożliwia naukowcom i inżynierom pełną realizację cyklu technologicznego bez konieczności przenoszenia próbek między różnymi urządzeniami. W praktyce oznacza to możliwość wytwarzania, kontrolowania, analizowania oraz charakteryzowania nanostruktur w obrębie jednej platformy, co bezpośrednio redukuje złożoność procesów technologicznych i podnosi ich ogólną efektywność. System wyposażono również w dedykowany moduł obrotu i nachylenia (tilt and rotate), który pozwala na kompleksową diagnostykę obrazową SEM bez negatywnego wpływu na jakość prowadzonej litografii.
Udoskonalenia techniczne i wydajność V generacji
Współczesne prace badawczo-rozwojowe wymagają wyższej precyzji oraz większej przepustowości. Piąta generacja PIONEER odpowiada na te potrzeby poprzez wdrożenie całkowicie nowego generatora wzorów (50 MHz/20-bit) skonstruowanego w oparciu o technologię FPGA, co znacząco przyspiesza proces naświetlania wzorów litograficznych.
Poprawie uległy również krytyczne parametry pozycjonowania i dopasowania wzorów. Urządzenie osiąga dokładność łączenia pól (stitching) oraz nakładania kolejnych warstw (overlay) na poziomie 40 nm (wyznaczaną jako wartość średnia + 3 sigma).
Dla zapewnienia wyższej powtarzalności oraz skrócenia czasu przygotowania eksperymentu, producent zautomatyzował kluczowe procedury obsługi kolumny elektronowej. Zestaw automatycznych funkcji obejmuje
autofokus oraz korektę (usuwanie) astygmatyzmu (stygmator), automatyczną regulację jasności i kontrastu obrazu, a także nową opcję śluzy załadowczej (load-lock) usprawniającą transfer próbek.
Warstwa programowa platformy została rozbudowana w ramach pakietu Nanosuite. Użytkownicy zyskali bezpośrednie funkcje importu danych z zewnętrznego oprogramowania przygotowawczego oraz możliwość bezpośredniego wgrywania plików graficznych BMP na potrzeby precyzyjnej litografii w skali szarości.
Spektrum zastosowań badawczych
Konstrukcja systemu PIONEER została zoptymalizowana pod kątem dynamicznie zmieniających się wymagań sektora R&D. Według deklaracji producenta, to idealne, wielozadaniowe narzędzie dla akademickich środowisk badawczych zajmujących się fotoniką, inżynierią materiałową oraz technologiami kwantowymi. Urządzenie znajduje zastosowanie wszędzie tam, gdzie wymagana jest jednoczesna precyzyjna litografia, zaawansowane obrazowanie strukturalne oraz metrologia w nanoskali.
Dystrybucja i kontakt w Polsce
Autoryzowanym przedstawicielem firmy Raith w Polsce, odpowiedzialnym za dystrybucję oraz wsparcie techniczne systemu PIONEER, jest przedsiębiorstwo PROKON Piekarska Katarzyna z siedzibą w Warszawie.
Źródło: Prokon Katarzyna Piekarska, RAITH GmbH
Więcej na prokon-elektronika.pl
