Samsung ogłasza gotowość do produkcji w procesie 5 nm EUV

Samsung Electronics ogłosił, że jego proces technologiczny 5 nm FinFET jest już kompletny i gotowy do wytwarzania próbek dla klientów. W porównaniu z 7 nm, technologia 5 nm FinFET zapewnić ma do 25% wzrostu efektywności w zakresie wykorzystania obszaru logicznego, przy o 20% niższym zużyciu energii lub o 10% wyższej wydajności. Podobnie jak poprzednik, proces 5 nm wykorzystuje litografię EUV.

Dodaj do ulubionych źródeł w Google
Posłuchaj
00:00

Samsung podkreśla, że w dużym stopniu ograniczy koszty migracji do procesu 5 nm dzięki wykorzystaniu całej własności intelektualnej dotyczącej technologii 7 nm i oparciu się na tym wcześniej zweryfikowanym ekosystemie projektowym, co pozwoli również przyspieszyć rozwój produktów klasy 5 nm.

W październiku 2018 r. Samsung ogłosił rozpoczęcie wstępnej produkcji w procesie 7 nm z wykorzystaniem litografii EUV, a o rozpoczęciu produkcji masowej firma informowała na początku bieżącego roku. Samsung współpracuje również z klientami w zakresie rozwoju, opartego na EUV, procesu 6 nm.

Technologia EUV Samsunga jest obecnie wdrożona na linii produkcyjnej S3 w Hwaseong w Korei. Firma planuje uruchomić w Hwaseong kolejną linię EUV, która zgodnie z prognozami spółki będzie ukończona w drugiej połowie 2019 r. i rozpocznie produkcję na początku roku 2020.

Źródło: DigiTimes

Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google? Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł
Powiązane treści
Synopsys razem z ARM i Samsungiem zamierza przyspieszyć wdrażanie litografii 5 nm
Samsung Electronics przewiduje najniższy kwartalny zysk od ponad dwóch lat
Firmy AMD i Samsung Electronics ogłosiły wieloletnie partnerstwo
Samsung opóźnia rynkowy debiut Galaxy Fold
Samsung uruchamia produkcję w procesie 7 nm LPP z wykorzystaniem litografii ultrafioletowej
Google otrzymał od Samsunga pierwsze egzemplarze zamówionych chipów
Samsung zainwestuje 22 miliardy dolarów w nowe technologie
Zobacz więcej w kategorii: Gospodarka
Komponenty
Produkty Stäubli Fluid Connectors w dystrybucji Semicona. Nowy model sprzedaży i szybsze dostawy w Polsce
Produkcja elektroniki
Siemens i Nvidia rozwijają system kontroli PCB oparty na AI
Komunikacja
Satelity potrzebują coraz większej autonomii
Komunikacja
Nokia zwiększa przychody o 10%. Silny wzrost w sektorze AI
Projektowanie i badania
AI zwiększa presję na badania i rozwój
Komponenty
Foxconn kupi połowę motoryzacyjnego biznesu Mitsubishi Electric. W tle inwestycja w Polsce
Zobacz więcej z tagiem: Produkcja elektroniki
Technika
Szablon SMT a jakość nadruku pasty lutowniczej
Gospodarka
Siemens i Nvidia rozwijają system kontroli PCB oparty na AI
Technika
Wady lutowania na fali - jak ograniczyć mostkowanie i niedobory lutu?

Zobaczyć obiekt oczami radaru, czyli dlaczego potrzebujemy laboratorium do pomiarów RCS?

Radar postrzega świat inaczej niż człowiek. Zamiast obrazu tworzonego przez światło widzialne rejestruje echo wysłanej fali elektromagnetycznej. Na odpowiedź radarową obiektu wpływają nie tylko jego rozmiary, lecz także kształt, zastosowane materiały, częstotliwość oraz kierunek obserwacji. Dlatego dwa przedmioty o podobnych wymiarach mogą być dla radaru widoczne zupełnie inaczej. Jak zatem sprawdzić, co radar rzeczywiście "widzi"? Służą temu pomiary RCS, prowadzone między innymi w specjalistycznych laboratoriach, które zapewniają kontrolowane i powtarzalne warunki oraz umożliwiają uzyskanie dokładności wymaganej w danym zastosowaniu.
Zapytania ofertowe
Unikalny branżowy system komunikacji B2B Znajdź produkty i usługi, których potrzebujesz Katalog ponad 7000 firm i 60 tys. produktów