Samsung ogłasza gotowość do produkcji w procesie 5 nm EUV

Samsung Electronics ogłosił, że jego proces technologiczny 5 nm FinFET jest już kompletny i gotowy do wytwarzania próbek dla klientów. W porównaniu z 7 nm, technologia 5 nm FinFET zapewnić ma do 25% wzrostu efektywności w zakresie wykorzystania obszaru logicznego, przy o 20% niższym zużyciu energii lub o 10% wyższej wydajności. Podobnie jak poprzednik, proces 5 nm wykorzystuje litografię EUV.

Dodaj do ulubionych źródeł w Google
Posłuchaj
00:00

Samsung podkreśla, że w dużym stopniu ograniczy koszty migracji do procesu 5 nm dzięki wykorzystaniu całej własności intelektualnej dotyczącej technologii 7 nm i oparciu się na tym wcześniej zweryfikowanym ekosystemie projektowym, co pozwoli również przyspieszyć rozwój produktów klasy 5 nm.

W październiku 2018 r. Samsung ogłosił rozpoczęcie wstępnej produkcji w procesie 7 nm z wykorzystaniem litografii EUV, a o rozpoczęciu produkcji masowej firma informowała na początku bieżącego roku. Samsung współpracuje również z klientami w zakresie rozwoju, opartego na EUV, procesu 6 nm.

Technologia EUV Samsunga jest obecnie wdrożona na linii produkcyjnej S3 w Hwaseong w Korei. Firma planuje uruchomić w Hwaseong kolejną linię EUV, która zgodnie z prognozami spółki będzie ukończona w drugiej połowie 2019 r. i rozpocznie produkcję na początku roku 2020.

Źródło: DigiTimes

Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google? Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł
Powiązane treści
Synopsys razem z ARM i Samsungiem zamierza przyspieszyć wdrażanie litografii 5 nm
Samsung Electronics przewiduje najniższy kwartalny zysk od ponad dwóch lat
Firmy AMD i Samsung Electronics ogłosiły wieloletnie partnerstwo
Samsung opóźnia rynkowy debiut Galaxy Fold
Samsung uruchamia produkcję w procesie 7 nm LPP z wykorzystaniem litografii ultrafioletowej
Google otrzymał od Samsunga pierwsze egzemplarze zamówionych chipów
Samsung zainwestuje 22 miliardy dolarów w nowe technologie
Zobacz więcej w kategorii: Gospodarka
Produkcja elektroniki
Infineon uruchomi pierwszą na świecie masową produkcję półprzewodników mocy GaN na podłożach 300 mm
Zasilanie
ME Embedded rozpoczyna współpracę z KOLT Power i rozszerza ofertę rozwiązań zasilających
Zasilanie
Kinterra kupiła grunt w Opolu pod fabrykę komponentów bateryjnych. W grze 1,22 mld zł dotacji
Produkcja elektroniki
Europejski rynek EMS odbija, ale problemem znów staje się łańcuch dostaw
Produkcja elektroniki
Targi i konferencja producentów elektroniki Electronica 2026
Optoelektronika
Semtech inwestuje w moce produkcyjne SiGe firmy Tower Semiconductor
Zobacz więcej z tagiem: Produkcja elektroniki
Gospodarka
Infineon uruchomi pierwszą na świecie masową produkcję półprzewodników mocy GaN na podłożach 300 mm
Technika
Ochrona elektroniki przez zalewanie
Gospodarka
Europejski rynek EMS odbija, ale problemem znów staje się łańcuch dostaw

Zobaczyć obiekt oczami radaru, czyli dlaczego potrzebujemy laboratorium do pomiarów RCS?

Radar postrzega świat inaczej niż człowiek. Zamiast obrazu tworzonego przez światło widzialne rejestruje echo wysłanej fali elektromagnetycznej. Na odpowiedź radarową obiektu wpływają nie tylko jego rozmiary, lecz także kształt, zastosowane materiały, częstotliwość oraz kierunek obserwacji. Dlatego dwa przedmioty o podobnych wymiarach mogą być dla radaru widoczne zupełnie inaczej. Jak zatem sprawdzić, co radar rzeczywiście "widzi"? Służą temu pomiary RCS, prowadzone między innymi w specjalistycznych laboratoriach, które zapewniają kontrolowane i powtarzalne warunki oraz umożliwiają uzyskanie dokładności wymaganej w danym zastosowaniu.
Zapytania ofertowe
Unikalny branżowy system komunikacji B2B Znajdź produkty i usługi, których potrzebujesz Katalog ponad 7000 firm i 60 tys. produktów