Samsung ogłasza gotowość do produkcji w procesie 5 nm EUV

Samsung Electronics ogłosił, że jego proces technologiczny 5 nm FinFET jest już kompletny i gotowy do wytwarzania próbek dla klientów. W porównaniu z 7 nm, technologia 5 nm FinFET zapewnić ma do 25% wzrostu efektywności w zakresie wykorzystania obszaru logicznego, przy o 20% niższym zużyciu energii lub o 10% wyższej wydajności. Podobnie jak poprzednik, proces 5 nm wykorzystuje litografię EUV.

Dodaj do ulubionych źródeł w Google
Posłuchaj
00:00

Samsung podkreśla, że w dużym stopniu ograniczy koszty migracji do procesu 5 nm dzięki wykorzystaniu całej własności intelektualnej dotyczącej technologii 7 nm i oparciu się na tym wcześniej zweryfikowanym ekosystemie projektowym, co pozwoli również przyspieszyć rozwój produktów klasy 5 nm.

W październiku 2018 r. Samsung ogłosił rozpoczęcie wstępnej produkcji w procesie 7 nm z wykorzystaniem litografii EUV, a o rozpoczęciu produkcji masowej firma informowała na początku bieżącego roku. Samsung współpracuje również z klientami w zakresie rozwoju, opartego na EUV, procesu 6 nm.

Technologia EUV Samsunga jest obecnie wdrożona na linii produkcyjnej S3 w Hwaseong w Korei. Firma planuje uruchomić w Hwaseong kolejną linię EUV, która zgodnie z prognozami spółki będzie ukończona w drugiej połowie 2019 r. i rozpocznie produkcję na początku roku 2020.

Źródło: DigiTimes

Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google? Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł
Powiązane treści
Synopsys razem z ARM i Samsungiem zamierza przyspieszyć wdrażanie litografii 5 nm
Samsung Electronics przewiduje najniższy kwartalny zysk od ponad dwóch lat
Firmy AMD i Samsung Electronics ogłosiły wieloletnie partnerstwo
Samsung opóźnia rynkowy debiut Galaxy Fold
Samsung uruchamia produkcję w procesie 7 nm LPP z wykorzystaniem litografii ultrafioletowej
Google otrzymał od Samsunga pierwsze egzemplarze zamówionych chipów
Samsung zainwestuje 22 miliardy dolarów w nowe technologie
Zobacz więcej w kategorii: Gospodarka
Komunikacja
Polska technologia dla bezpieczeństwa publicznego - wsparcie Systemu Ostrzegania i Alarmowania PSP
Projektowanie i badania
10 lat TME Edukacja: dekada wspierania edukacji technicznej na świecie
Zasilanie
Targi Energetab – podsumowanie
Komponenty
PPWR zmienia branżę e-commerce w Europie
Produkcja elektroniki
Nowa generacja chipów dla AI. Applied Materials i Intel zacieśniają współpracę
Zasilanie
Infineon sfinalizował przejęcie C2i Semiconductors. Wzmocni rozwiązania zasilania dla centrów danych AI
Zobacz więcej z tagiem: Produkcja elektroniki
Prezentacje firmowe
Rochester Electronics wprowadza Through Life Support 360™ (TLS360™), aby zwiększyć pewność w zakresie cyklu życia półprzewodników
Prezentacje firmowe
Ochrona ESD kończy się za bramą strefy EPA. Jak zapakować komponent, żeby dojechał do klienta sprawny?
Gospodarka
Nowa generacja chipów dla AI. Applied Materials i Intel zacieśniają współpracę

Zobaczyć obiekt oczami radaru, czyli dlaczego potrzebujemy laboratorium do pomiarów RCS?

Radar postrzega świat inaczej niż człowiek. Zamiast obrazu tworzonego przez światło widzialne rejestruje echo wysłanej fali elektromagnetycznej. Na odpowiedź radarową obiektu wpływają nie tylko jego rozmiary, lecz także kształt, zastosowane materiały, częstotliwość oraz kierunek obserwacji. Dlatego dwa przedmioty o podobnych wymiarach mogą być dla radaru widoczne zupełnie inaczej. Jak zatem sprawdzić, co radar rzeczywiście "widzi"? Służą temu pomiary RCS, prowadzone między innymi w specjalistycznych laboratoriach, które zapewniają kontrolowane i powtarzalne warunki oraz umożliwiają uzyskanie dokładności wymaganej w danym zastosowaniu.
Zapytania ofertowe
Unikalny branżowy system komunikacji B2B Znajdź produkty i usługi, których potrzebujesz Katalog ponad 7000 firm i 60 tys. produktów