Nvidia wykorzysta 7-nanometrowy proces technologiczny Samsunga

Firma Nvidia ogłosiła niedawno, że udostępni nowe superwersje kart graficznych z serii RTX20, które zaoferują lepszą specyfikację sprzętową przy wykorzystaniu litografii 12 nm, która była stosowana w oryginalnej linii RTX.

Źródło: mybroadband.co.za

Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google? Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł

Powiązane treści

Samsung szuka nowych dostawców fluorowodoru spoza Japonii

Nvidia wyszkoli 5 tys. osób w zakresie wykorzystywania sztucznej inteligencji

Nvidia najcenniejszym amerykańskim producentem chipów - wyprzedziła Intela

NVIDIA przejmuje Mellanox za 6,9 mld dolarów

HiSilicon wchodzi do pierwszej dziesiątki światowego rankingu dostawców półprzewodników

Intel odzyskuje czołową pozycję w rankingu producentów półprzewodników

Zysk operacyjny Samsunga spadł o 56%

Samsung wzmocni możliwości w zakresie przetwarzania neuronowego

Co dalej z ARM?

Zobacz więcej w kategorii: Gospodarka

Komunikacja

HAPS-y staną się ratunkiem dla zatłoczonej orbity?

Produkcja elektroniki

Scanfil rozbuduje zakład w Mysłowicach o 6 tys. m²

Komponenty

Altera przygotowuje się do IPO. Może pozyskać ponad 2 mld dolarów

Projektowanie i badania

Unia chce własnej infrastruktury AI

Produkcja elektroniki

Samsung i ASML rozszerzają współpracę w technologii High NA EUV

Komponenty

Qualcomm i Amazon zawierają umowę na dostawy chipów AI za nawet 60 mld dolarów

Zobacz więcej z tagiem: Produkcja elektroniki

Gospodarka

Scanfil rozbuduje zakład w Mysłowicach o 6 tys. m²

Szkolenie

Praktyka i teoria łączenia drutowego - szkolenie inżynierskie z technologii wire bonding

Szkolenie

Warsztaty z mikropołączeń cienkodrutowych

Kompatybilność elektromagnetyczna

Historia EMC (electromagnetic compatibility) zaczyna się od potrzeby opanowania problemu: co zrobić, gdy jedno urządzenie zaczyna zakłócać pracę drugiego. Miała swój początek wraz z pojawianiem się coraz większej liczby urządzeń elektrycznych wykonujących bardziej złożone zadania. Początkowo problem ten miał charakter niemal przypadkowy, a przybrał rolę istotnego wyzwania technicznego wymagającego systematycznego podejścia. Aktualnie jest to obowiązkowy punkt w produkcji urządzeń elektrycznych oraz elektronicznych.