wersja mobilna
Online: 673 Piątek, 2017.11.24

Biznes

Polacy opatentują metodę przemysłowej produkcji grafenu

wtorek, 26 kwietnia 2011 10:55

Metoda wytwarzania grafenu jest obecnie strategiczną technologią dla światowej elektroniki. Od kilku lat najlepsze ośrodki badawcze prowadzą wyścig w dziedzinie opanowania sposobu pozwalającego wytwarzać grafen na dużych powierzchniach o jakości wymaganej w zastosowaniach w przyrządach elektronowych. Polscy naukowcy z Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych (ITME) w Warszawie wynaleźli już metodę wzrostu grafenu i obecnie patentują metodę jego przemysłowej produkcji na świecie. Projekt otrzymał rządowe dofinansowanie z Ministerstwa Nauki i Szkolnictwa Wyższego oraz Ministerstwa Gospodarki na prowadzenie dalszych badań.

"Grafen to bardzo perspektywiczny materiał, który może zrewolucjonizować światową elektronikę. Cieszę się, że jednostka podległa Ministerstwu Gospodarki jest liderem badań nad tym cennym materiałem. Polsce potrzebne są produkty na bazie nowoczesnych technologii, które zwiększą konkurencyjność naszej gospodarki na międzynarodowym rynku" - powiedział wicepremier, minister gospodarki Waldemar Pawlak.

 

World News 24h

czwartek, 23 listopada 2017 19:53

An Israel-based semiconductor startup has reported positive results with its ReRAM technology. Weebit Nano recently published preliminary evaluation results of endurance and data retention measurement on 4Kb arrays on 300nm cells. In a telephone interview with EE Times, CEO Coby Hanoch said the results successfully conclude the 300nm 4Kb characterization. The measurement was done under a variety of temperature and duration conditions at 150, 200 and 260 degrees Celsius, monitoring the ability of the ReRAM cells to maintain their resistivity levels within industry acceptable ranges. Hanoch said 260 degrees Celsius is significant since it's the temperature used when soldering chipsets into printed circuit boards.

więcej na: www.eetimes.com