Samsung Electronics planuje utworzyć linię produkcyjną chipów w 5-nanometrowej litografii w swoim zakładzie V1 zlokalizowanym, w Hwaseong, w Korei. Budowa ma być ukończona do końca czerwca, a uruchomienie linii nastąpi do końca bieżącego roku lub na początku roku 2021.
Zakład V1 ma realizować produkcję z wykorzystaniem technologii EUV (Extreme UltraViolet). Przy użyciu tego procesu będą powstawać tam chipy w litografii 7 nm i mniejszej. Fabryka V1 rozpoczęła swoją działalność w lutym 2018 roku, a pilotażowa produkcja płytek ruszyła w drugiej połowie 2019 roku. Samsung wskazuje, że zakład V1 już wytwarza układy scalone w procesach 7 i 6 nm. Firma zamierza dostosowywać obwody elektroniczne do litografii na poziomie 3 nm.
Źródło: Digitimes
Poszukuję produktu lub usługi
Chcę skontaktować się z firmą
Mam pytanie ogólne
