Samsung zakończył testy 10 nm technologii drugiej generacji

Firma Samsung Electronics ogłosiła, że jej 10-nanometrowa technologia FinFET drugiej generacji 10LPP (Low Power Plus) została przetestowana i jest gotowa do produkcji. Dzięki poprawie struktury 3D, proces 10LPP pozwala na osiągnięcie 10-procentowej poprawy wydajności lub 15-procentowego zmniejszenia zużycia energii w porównaniu z procesem pierwszej generacji 10LPE (Low-Power Early).

Dodaj do ulubionych źródeł w Google
Posłuchaj
00:00

Samsung był pierwszym dostawcą w branży, który rozpoczął masową produkcję układów system-on-chips (SoCs) w technologii 10LPE w październiku ubiegłego roku. Najnowsze smartfony Samsung Galaxy S8 są zasilane przez niektóre z tych chipów.

Aby sprostać długoterminowemu zapotrzebowaniu na proces 10 nm, wyrażanemu przez szerokie grono klientów, Samsung rozpoczął instalację urządzeń produkcyjnych na najnowszej linii S3 w Hwaseong w Korei. Oczekuje się, że linia ta będzie gotowa do produkcji w czwartym kwartale bieżącego roku.

źródło: Samsung

Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google? Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł
Powiązane treści
Samsung zastąpił Intela w roli największego producenta chipów
Samsung traci zamówienie Qualcomma na chipy 7 nm
Samsung otworzył w Warszawie centrum innowacji dla biznesu
Produkcja chipów AI firmy Samsung zwiększy się 30-krotnie
Firmy SK Hynix i Micron ogłaszają plany rozwoju 10-nanometrowych pamięci DRAM
Samsung zainwestuje 22 mld dolarów w sektor IC
Samsung uruchamia inkubator dla startupów
Czy po blisko ćwierćwieczu dominacji Intel zostanie zdetronizowany?
Samsung oferuje klientom chipy w ulepszonym procesie 10 nm
GlobalFoundries pominie 10 nm i skoczy bezpośrednio do procesu 7 nm
Samsung rozpoczął masową produkcję pamięci DRAM 10 nm
Samsung rozpoczął produkcję w 14-nanometrowym procesie FinFET 2 generacji
TSMC rozpocznie w 2017 roku produkcję w procesie 10 nm
Zobacz więcej w kategorii: Gospodarka
Zasilanie
Infineon sfinalizował przejęcie C2i Semiconductors. Wzmocni rozwiązania zasilania dla centrów danych AI
Elektromechanika
Więcej zaawansowanych i wytrzymałych rozwiązań połączeniowych - Farnell nawiązuje współpracę z Amphenol Nexus Technologies
Komunikacja
Europa poniesie olbrzymie koszty usuwania chińskiej technologii
Zasilanie
SMA otwiera w Niemczech nową fabrykę gigawatową. Inwestycja za 80 mln euro wzmocni europejski przemysł OZE
Aktualności
Farnell nominuje dr Sarę Ghaemi na stanowisko Regional Sales Director dla regionów Beneluksu i DACH
Produkcja elektroniki
Electro Welle inwestuje blisko 20 mln zł w rozwój zakładu w Marcinkowicach
Zobacz więcej z tagiem: Artykuły
Magazyn
Wrzesień 2026
Magazyn
Sierpień 2026
Targi zagraniczne
Electronica 2026 - targi i konferencja producentów elektroniki

Zobaczyć obiekt oczami radaru, czyli dlaczego potrzebujemy laboratorium do pomiarów RCS?

Radar postrzega świat inaczej niż człowiek. Zamiast obrazu tworzonego przez światło widzialne rejestruje echo wysłanej fali elektromagnetycznej. Na odpowiedź radarową obiektu wpływają nie tylko jego rozmiary, lecz także kształt, zastosowane materiały, częstotliwość oraz kierunek obserwacji. Dlatego dwa przedmioty o podobnych wymiarach mogą być dla radaru widoczne zupełnie inaczej. Jak zatem sprawdzić, co radar rzeczywiście "widzi"? Służą temu pomiary RCS, prowadzone między innymi w specjalistycznych laboratoriach, które zapewniają kontrolowane i powtarzalne warunki oraz umożliwiają uzyskanie dokładności wymaganej w danym zastosowaniu.
Zapytania ofertowe
Unikalny branżowy system komunikacji B2B Znajdź produkty i usługi, których potrzebujesz Katalog ponad 7000 firm i 60 tys. produktów