W 2024 roku TSMC rozpocznie masową produkcję układów 2 nm

TSMC dokonało znaczącego przełomu w badaniach nad 2-nanometrową litografią. Według źródeł, w przeciwieństwie do obecnie stosowanej architektury, bazującej na tranzystorze polowym typu fin (FinFET) 3 nm i 5 nm, technologia 2 nm ma odpowiadać za nową architekturę wielokanałowego tranzystora polowego (MBCFET).

Dodaj do ulubionych źródeł w Google
Posłuchaj
00:00

Jesteśmy optymistami i uważamy, że rentowność próbnej produkcji w drugiej połowie 2023 roku osiągnie 90%, co pomoże nam w przyszłości nadal zdobywać duże zamówienia od głównych producentów, takich jak Apple i Huida - powiedział dyrektor TSMC. Ponadto wskazał, że masowa produkcja rozpocznie się w 2024 roku.

W roku ubiegłym TSMC utworzyło zespół badawczo-rozwojowy procesu 2 nm, aby znaleźć wykonalną ścieżkę rozwoju. Biorąc pod uwagę koszt, kompatybilność sprzętu, dojrzałość technologii i wydajność oraz inne warunki, litografia ta zostanie wdrożona do tranzystorów typu MBCFET wykorzystujących architekturę bramek typu GAA. Architektura rozwiązuje fizyczną granicę upływu prądu spowodowanego skurczem procesu FinFET.

Udoskonalenie procesu w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV) sprawiło, że kluczowa technologia układania w stosy nanoarkuszy opracowana przez TSMC przez wiele lat stała się bardziej dopracowana i poprawiła wydajność.

Prezes TSMC, Wei Zhejia, ujawnił kilka dni temu podczas specjalnego spotkania w Yushan Science and Technology Association, że z każdą generacją postępu procesu TSMC efektywność układów scalonych wzrasta o 30 do 40%, a zużycie energii redukowane jest o 20 do 30%.

Firma Apple opublikowała w kwietniu raport zatytułowany "TSMC is already working on 2nm Processors for 2024, they've actually begun Exploratory Studies for nodes beyond 2nm". Tajwański raport wskazuje, że TSMC ogłosiło dalszy rozwój półprzewodników zgodny z prawem Moore'a. Firma jest bardziej pewna możliwości przejścia do 1-nanometrowego procesu w przyszłości. To z pewnością zwiększy różnicę poziomu technologicznego w porównaniu z Samsungiem, który obecnie pozostaje daleko za TSMC.

Takie firmy, jak Apple, Huida, Qualcomm i Supermicro skorzystają w przyszłości z 3- 2- i 1-nanometrowej litografii opracowanej przez TSMC.

Źródło: Patently Apple

Chcesz częściej widzieć nasze artykuły w Google? Dodaj ElektronikaB2B do ulubionych źródeł
Powiązane treści
Phoenix Silicon International i Kinik otrzymują większe zamówienia od TSMC
W południowym Tajwanie powstał duży klaster przemysłu IC
TSMC wybuduje fabrykę dla chipów w procesie 2 nm
Samsung zdobywa pierwsze zamówienie na chipy w procesie 2 nm
TSMC uruchomi próbną produkcję w litografii 3 nm
TSMC osiąga coraz lepsze wyniki
TSMC zainwestuje 3,5 mld dolarów w projekt fabryki w USA
Samsung sprzeda fabrykę telewizorów firmie Amtran Technology
Samsung skomercjalizuje technologię BSPDN w procesie 2 nm w 2025 roku
TSMC wyda na tegoroczne inwestycje 20 mld dolarów
TSMC opracowało nową technikę czyszczenia dla maski EUV
W Europie będą produkowane chipy w technologii poniżej 2 nm
Zobacz więcej w kategorii: Gospodarka
Zasilanie
Liteon przejmie 25% udziałów w polskiej DCX za 176 mln dolarów
Projektowanie i badania
Augmented Engineering w sektorze A&D - wyścig o przewagę technologiczną
Elektromechanika
Rynek czujników dla robotów humanoidalnych przekroczy 6,59 mld USD do 2037 roku. Nadchodzi sensoryczna rewolucja w robotyce
Produkcja elektroniki
Sztuczna inteligencja w przemyśle - koniec eksperymentów, czas na wyniki
Projektowanie i badania
IBM przejął HRL Laboratories. Wzmacnia rozwój technologii kwantowych
Zasilanie
Centra danych inwestują we własne zasilanie, by uniknąć kryzysu
Zobacz więcej z tagiem: Projektowanie i badania
Technika
Badania Kompatybilności Elektromagnetycznej w Laboratoriach OBR CTM SAC 10 - normy ogólne i obronne oraz nowe metody EMC dla urządzeń trójfazowych, medycznych i laboratoryjnych
Gospodarka
Augmented Engineering w sektorze A&D - wyścig o przewagę technologiczną
Prezentacje firmowe
Przedstawiamy MPLAB Code Configurator w VS Code

Kompatybilność elektromagnetyczna

Historia EMC (electromagnetic compatibility) zaczyna się od potrzeby opanowania problemu: co zrobić, gdy jedno urządzenie zaczyna zakłócać pracę drugiego. Miała swój początek wraz z pojawianiem się coraz większej liczby urządzeń elektrycznych wykonujących bardziej złożone zadania. Początkowo problem ten miał charakter niemal przypadkowy, a przybrał rolę istotnego wyzwania technicznego wymagającego systematycznego podejścia. Aktualnie jest to obowiązkowy punkt w produkcji urządzeń elektrycznych oraz elektronicznych.
Zapytania ofertowe
Unikalny branżowy system komunikacji B2B Znajdź produkty i usługi, których potrzebujesz Katalog ponad 7000 firm i 60 tys. produktów