Opracowana przez naukowców z Instytutu Inżynierii Materiałowej Politechniki Łódzkiej pod kierownictwem prof. Piotra Kuli metoda produkcji Grafenu Metalurgicznego o Wysokiej Wytrzymałości - HSMG (High Strength Metallurgical Graphene) uzyskała ochronę patentową w Stanach Zjednoczonych i Unii Europejskiej. Grafen produkowany przez spółkę Advanced Graphene Products ze Świebodzina najbardziej przypomina materiał wzorcowy. Polscy naukowcy potrafią wytwarzać grafen w metrach kwadratowych, co umożliwia jego wytwarzanie na skalę przemysłową.
Instalacja pozwalająca na wytwarzanie grafenu HSMG na skalę przemysłową zostanie uruchomiona w nowej siedzibie firmy AGP na terenie Parku Naukowo-Technologicznego Uniwersytetu Zielonogórskiego. Grafen produkowany metodą HSMG będzie można wykorzystywać przede wszystkim w kompozytach i materiałach konstrukcyjnych.
- Dzisiejszy światowy brak sukcesu grafenu wynika z tego, że grafenu o odpowiednich właściwościach nie ma na rynku. Nasz jest najbardziej zbliżony do grafenu, za który przyznano Nagrodę Nobla. Opracowana przez nas metoda jest inna od wszystkich, które są znane w nauce i w technologii światowej. Wytwarzamy grafen na ciekłym metalu, przez co ma szansę być grafenem niemal doskonałym - powiedział PAP prof. Piotr Kula.
Technologię umożliwiającą produkcję taniego grafenu dla elektroniki na podłożach z węglika krzemu w 2011 roku opracował zespół pod kierownictwem dr. inż. Włodzimierza Strupińskiego z Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie. W maju 2015 roku uzyskała ona ochronę patentową w USA.
źródło: naukawpolsce.pap.plzdjęcie: Advanced Graphene Products
» Polska na 15 miejscu pod względem liczby patentów
» Na Uniwersytecie Warszawskim ruszył "Graphene Week 2016"
» Nauka i przemysł tworzą "Graphene in Poland"
» Grupa Azoty będzie produkować grafen
» Liczba polskich patentów wzrosła o 19%
» Czy grafen ma potencjał w obszarze technologii kosmicznych?
» Asustek i ASMedia rozstrzygają spór patentowy z VIA
» Graphene Flagship zaprezentuje innowacje technologiczne podczas konferencji Tallinn Digital Summit
» Polskie moduły fotowoltaiczne będą wykorzystywać warstwę grafenową
» Nowe baterie z grafenu
» Chińczycy rozwijają grafenowy papier elektroniczny
» Otwarcie Centrum Grafenu i Innowacyjnych Nanotechnologii Etap I
» Huawei włącza się w badania nad grafenem
» Na Politechnice Warszawskiej działa laboratorium grafenowe
» Grafenowe nanowstążki mogą przyspieszyć poprawę efektywności elektroniki
» Grafen będzie wykorzystywany w modernizacji polskiego wojska
» Pierwszy komercyjny sukces grafenu - energooszczędna żarówka
» Politechnika Łódzka wytwarza grafen o większej wytrzymałości
» ITME i SecoWarwick prezentują pierwsze urządzenie do produkcji grafenu na skalę przemysłową
» Gratulujemy nagrody za polski grafen!
» Chiny wychodzą na prowadzenie w grafenie i nanorurkach
» ITME ma patent w USA
Versum Materials announced the grand opening of its new research and development facility at its semiconductor materials manufacturing site in Hometown, Pennsylvania. The ribbon-cutting ceremony took place April 10, 2018. Versum employees, members of the community, local government, customers and strategic partners attended the event. The R&D laboratory is dedicated to new materials used in the manufacture of semiconductors. Scientists in the facility will synthesize and purify new molecules down to parts per billion impurity levels and below using the latest technologies available in the industry. The researchers can assess the applications for these new molecules and scale up the molecules to larger quantities for customer evaluation.
więcej na: www.versummaterials.com
