Polska metoda wytwarzania grafenu HSMG opatentowana w USA i UE

| Gospodarka

Opracowana przez naukowców z Instytutu Inżynierii Materiałowej Politechniki Łódzkiej pod kierownictwem prof. Piotra Kuli metoda produkcji Grafenu Metalurgicznego o Wysokiej Wytrzymałości - HSMG (High Strength Metallurgical Graphene) uzyskała ochronę patentową w Stanach Zjednoczonych i Unii Europejskiej. Grafen produkowany przez spółkę Advanced Graphene Products ze Świebodzina najbardziej przypomina materiał wzorcowy. Polscy naukowcy potrafią wytwarzać grafen w metrach kwadratowych, co umożliwia jego wytwarzanie na skalę przemysłową.

Polska metoda wytwarzania grafenu HSMG opatentowana w USA i UE

Instalacja pozwalająca na wytwarzanie grafenu HSMG na skalę przemysłową zostanie uruchomiona w nowej siedzibie firmy AGP na terenie Parku Naukowo-Technologicznego Uniwersytetu Zielonogórskiego. Grafen produkowany metodą HSMG będzie można wykorzystywać przede wszystkim w kompozytach i materiałach konstrukcyjnych.

- Dzisiejszy światowy brak sukcesu grafenu wynika z tego, że grafenu o odpowiednich właściwościach nie ma na rynku. Nasz jest najbardziej zbliżony do grafenu, za który przyznano Nagrodę Nobla. Opracowana przez nas metoda jest inna od wszystkich, które są znane w nauce i w technologii światowej. Wytwarzamy grafen na ciekłym metalu, przez co ma szansę być grafenem niemal doskonałym - powiedział PAP prof. Piotr Kula.

Technologię umożliwiającą produkcję taniego grafenu dla elektroniki na podłożach z węglika krzemu w 2011 roku opracował zespół pod kierownictwem dr. inż. Włodzimierza Strupińskiego z Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie. W maju 2015 roku uzyskała ona ochronę patentową w USA.

źródło: naukawpolsce.pap.pl
zdjęcie: Advanced Graphene Products